[发明专利]烹饪系统

权利要求书

1.一种烹饪系统，包括：

壳体，其具有开放的上表面和朝向该上表面开放的中空内部，所述中空内部包括底表面以及围绕所述中空内部形成的凸缘，所述中空内部限定用于接收待烹调食物的烹调腔；

支撑主体，其能定位在所述中空内部中且能由所述凸缘支撑以支撑所述食物，所述中空内部包括在所述支撑主体的底部与所述中空内部的所述底表面之间的间隙区域；

加热元件，其可操作地耦合到所述支撑主体；以及

盖，其与所述壳体相关联，其中所述盖能围绕枢轴相对于所述烹饪系统的基部旋转或枢转，并且所述枢轴定位在所述壳体的与所述开放的上表面相对的下表面附近。

2.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述加热元件嵌入所述支撑主体内。

3.根据权利要求1所述的烹饪系统，其进一步包括安置在所述支撑主体上方的另一加热元件。

4.根据权利要求3所述的烹饪系统，其中，所述另一加热元件安置在所述盖中。

5.根据权利要求3所述的烹饪系统，其中所述支撑主体具有足以维持实现所述食物的美拉德反应所需的温度的热质量。

6.根据权利要求3所述的烹饪系统，其中所述另一加热元件能够操作以经由辐射加热所述支撑主体。

7.根据权利要求3所述的烹饪系统，其进一步包括与所述另一加热元件一起安置的风扇，其中所述另一加热元件能够操作以经由对流加热所述食物。

8.根据权利要求3所述的烹饪系统，其中所述加热元件和所述另一加热元件能够共同或独立操作以加热所述食物。

9.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑主体包括烧烤表面。

10.根据权利要求9所述的烹饪系统，其中所述烧烤表面包括多个烧烤肋。

11.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑主体具有介于200g与3kg之间的热质量。

12.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑主体具有包括扩散结构的支撑表面。

13.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述烹饪系统能够在包括第一烹饪模式和第二烹饪模式的多个模式中操作，其中在所述第一烹饪模式中，所述烹饪系统能够操作为空气烤架，而在所述第二烹饪模式中，所述烹饪系统能够操作为对流灶具。

14.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑主体包括多个开口。