[发明专利]一种用于单片式晶圆的清洗装置

权利要求书

1.一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：包括间隙转动机构(1)、固定机构(2)、清洗机构(3)，所述间隙转动机构(1)包括底板(101)、转轴支架(102)、转轴(103)、蜗轮(104)、蜗杆(105)，所述底板(101)顶端通过所述转轴支架(102)支撑有所述转轴(103)，所述转轴(103)一端键连接有所述蜗轮(104)，所述转轴(103)另一端固定有转盘(108)，所述蜗轮(104)一侧啮合有所述蜗杆(105)，所述蜗杆(105)键连接在电机一(106)输出轴上，所述电机一(106)通过电机支座(107)固定安装在所述转轴支架(102)上，所述固定机构(2)包括连接架(201)、滑动支架(202)、滑套(203)、滑杆(204)、限位板一(205)，所述转盘(108)外侧通过螺栓连接有所述连接架(201)，所述连接架(201)上通过螺栓固定安装有所述滑动支架(202)，所述滑动支架(202)一端设有所述滑套(203)，所述滑套(203)上滑动连接有所述滑杆(204)，所述滑杆(204)一端固定有所述限位板一(205)，所述滑杆(204)另一端固定有固定架(208)，所述滑杆(204)外侧且位于所述限位板一(205)与所述滑动支架(202)之间套设有弹簧一(206)，所述滑杆(204)上固定有限位板二(207)，所述固定架(208)上通过滑动连接的支撑杆(209)支撑有偏移板(210)，所述支撑杆(209)远离所述偏移板(210)一端固定有限位板三(212)，所述支撑杆(209)外侧且位于所述限位板三(212)与所述固定架(208)之间套设有弹簧二(213)，所述固定架(208)和所述偏移板(210)相对的一面均设有吸盘(211)，所述底板(101)顶端通过液压杆支架(214)支撑有液压杆(215)，所述液压杆(215)伸缩端固定有与所述限位板一(205)相对应的推板(216)。

2.根据权利要求1所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：所述清洗机构(3)包括清洗箱(301)、电机二(302)、转板(303)、喷水头一(304)、排液管(305)，所述底板(101)上设有所述清洗箱(301)，所述清洗箱(301)前后壁上安装有所述电机二(302)，所述电机二(302)输出轴与所述转板(303)固定连接，所述转板(303)上安装有多个所述喷水头一(304)，所述清洗箱(301)底端相连通有所述排液管(305)。

3.根据权利要求1所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：所述清洗机构(3)包括清洗箱(301)、固定盘(306)、喷水头二(307)，所述底板(101)上设有所述清洗箱(301)，所述清洗箱(301)内壁上固定有所述固定盘(306)，所述固定盘(306)上设有所述喷水头二(307)。

4.根据权利要求1所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：多个所述连接架(201)、所述滑动支架(202)、所述滑杆(204)、所述固定架(208)和所述偏移板(210)在所述转盘(108)圆周均匀分布。

5.根据权利要求1所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：所述滑杆(204)为多边柱状。

6.根据权利要求1所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：每个所述固定架(208)上设置的所述支撑杆(209)均为两个。

7.根据权利要求1所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：所述限位板二(207)设置于所述滑套(203)与所述固定架(208)之间。

8.根据权利要求1所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：所述滑套(203)与所述滑动支架(202)焊接且所述滑杆(204)贯穿所述滑动支架(202)和所述滑套(203)。

9.根据权利要求2所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：两个所述电机二(302)和所述转板(303)相对设置。

10.根据权利要求3所述的一种用于单片式晶圆的清洗装置，其特征在于：所述喷水头二(307)为多个。