[发明专利]一种调节装置、蒸镀机及调节方法

权利要求书

1.一种调节装置，包括用于放置蒸镀掩膜版的基台，其特征在于，所述基台有四个，分别对应蒸镀掩膜版的框架的四条边，所述基台设置有能调节高度的支撑机构，用于将所述蒸镀掩膜版的框架区域与待蒸镀基板贴合；所述支撑机构设置于所述蒸镀掩膜版的框架各边所对应的基台上；每个所述基台上的支撑机构包括至少两排间隔设置的升降结构；所述升降结构包括升降块，设置于所述基台开设的凹槽内；所述升降块能够收缩至所述凹槽内或伸出所述凹槽，以调节所述蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离。

2.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于，

同一排的相邻两个升降结构之间设置有传感器，用于检测所述蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离。

3.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于，每个所述基台上的升降结构的排数根据所述蒸镀掩膜版的框架对应边的宽度确定。

4.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，每个所述基台上的支撑机构包括两排升降结构时，每个所述基台上的所述两排升降结构分别用于调节所述蒸镀掩膜版的框架对应边的内侧和外侧与基台之间的距离，以使所述框架的对应边的内侧和外侧分别与待蒸镀基板贴合。

5.一种蒸镀机，其特征在于，包括：

如权利要求1至4中任一项所述的调节装置。

6.一种调节方法，其特征在于，基于权利要求1至4中任一项所述的调节装置或者权利要求5所述的蒸镀机实现，所述调节方法包括：

在蒸镀过程中通过所述支撑机构调节所述蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离，以使所述蒸镀掩膜版的框架区域与待蒸镀基板贴合。

7.根据权利要求6所述的调节方法，其特征在于，所述在蒸镀过程中通过支撑机构调节蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离之前，所述调节方法还包括：

检测所述蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离；

通过所述支撑机构调节所述蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离，以使所述蒸镀掩膜版的框架区域与待蒸镀基板贴合。

8.根据权利要求6所述的调节方法，其特征在于，所述在蒸镀过程中通过支撑机构调节所述蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离，包括：

获取当前像素偏移量；

根据像素偏移量、目标升降块及目标升降块的调节量之间的预设对应关系，确定当前像素偏移量对应的目标升降块及目标升降块的调节量；

驱动目标升降块调节对应的调节量。

9.根据权利要求8所述的调节方法，其特征在于，所述像素偏移量、目标升降块及目标升降块的调节量之间的预设对应关系由工艺测试确定。

10.一种调节方法，其特征在于，包括：

在蒸镀掩膜版的边框区域产生蒸镀阴影区的情况下，采用新的待蒸镀基板进行蒸镀测试，直至不再产生蒸镀阴影区；所述蒸镀测试基于权利要求1至4中任一项所述的调节装置或者权利要求5所述的蒸镀机进行；

在所述蒸镀测试过程中，通过支撑机构调节所述蒸镀掩膜版的框架各边与对应的基台之间的距离，以使框架各边与所述新的待蒸镀基板贴合。