[发明专利]显示面板、显示装置及显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括对合连接的阵列基板和滤光基板，其中：

阵列基板包括衬底基板、位于衬底基板靠近滤光基板的一侧的开关器件层，位于开关器件层靠近滤光基板的一侧的像素界定层和发光器件层，以及覆盖像素界定层和发光器件层的封装层，其中，发光器件层包括被像素界定层间隔的多个发光器件，封装层包括至少一个第一膜层，且最靠近滤光基板的第一膜层为第一无机层；

滤光基板包括透明盖板、位于透明盖板靠近阵列基板的一侧的滤光层，以及位于滤光层靠近阵列基板的一侧的第二无机层，其中，滤光层包括遮光矩阵以及在遮光矩阵的每个透光区内设置的彩色光阻，每个彩色光阻与一个发光器件相对，第二无机层为平坦层且与第一无机层键合连接。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

滤光基板还包括位于透明盖板与滤光层之间的第三无机层，第二无机层曝露出第三无机层的周边部分，第三无机层的周边部分与第一无机层的周边部分键合连接。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，第一无机层、第二无机层和第三无机层的材料分别包括碳氮化硅。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，第三无机层包括多个第二膜层，多个第二膜层的折射率沿靠近阵列基板的方向依次减小，或者

多个第二膜层包括交替排布的折射率为n1的第二膜层和折射率为n2的第二膜层，其中，n1/n2大于等于1.4，且小于等于1.8。

5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，第三无机层包括多个光栅结构，每个光栅结构与一个彩色光阻相对，且每个光栅结构的周期与相对的彩色光阻的颜色匹配设置。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，每个光栅结构为一维光栅结构或二维光栅结构；和/或

每个光栅结构为可见光分布波段刻蚀衍射光栅或宽波段投射式纳米光栅。

7.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，滤光基板还包括位于透明盖板与第三无机层之间的金属纳米阵列层，金属纳米阵列层包括多个纳米孔阵列，每个纳米孔阵列与一个彩色光阻相对，且每个纳米孔阵列所包含的多个纳米孔的排布密度与相对的彩色光阻的颜色匹配设置。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，滤光基板还包括位于滤光层与第二无机层之间的透镜层，透镜层包括多个透镜，每个透镜在透明盖板上的正投影与一个彩色光阻在透明盖板上的正投影部分交叠，或者，每个透镜在透明盖板上的正投影位于一个彩色光阻在透明盖板上的正投影内。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

阵列基板还包括位于像素界定层靠近滤光基板的一侧的支撑层；和/或

封装层包括至少两个无机材料的第一膜层，至少两个无机材料的第一膜层的折射率沿靠近滤光基板的方向依次增大。

10.根据权利要求1-9任一项所述的显示面板，其特征在于，发光器件包括有机发光二极管器件、白光有机发光二极管器件或量子点有机发光二极管器件。

11.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1至10任一项所述的显示面板。

12.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

制作阵列基板，包括：在衬底基板的一侧依次形成开关器件层、像素界定层、发光器件层和封装层，其中，发光器件层包括被像素界定层间隔的多个发光器件，封装层包括至少一个第一膜层，且最远离阵列基板的第一膜层为第一无机层；

制作滤光基板，包括：在透明盖板的一侧依次形成滤光层和第二无机层，其中，滤光层包括遮光矩阵以及在遮光矩阵的每个透光区内设置的彩色光阻，每个彩色光阻配置为与一个发光器件相对；及

将阵列基板和滤光基板对合封装，包括：通过键合工艺使第二无机层与第一无机层键合连接。