[发明专利]判断叠对误差的方法及系统在审
申请号: | 202110190066.1 | 申请日: | 2021-02-18 |
公开(公告)号: | CN113311668A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 谢鸿志;陈彦良 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 黄艳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 判断 误差 方法 系统 | ||
1.一种判断叠对误差的方法,包括:
在一基板上方设置一参考图案模块,上述基板包括位在一第一位置的一第一叠对测量图案,以及位在一第二位置且与上述第一叠对测量图案分隔的一第二叠对测量图案,其中上述参考图案模块包括一第一参考图案以及与上述第一参考图案分隔的一第二参考图案;
至少创建上述第一参考图案与上述参考图案模块下方的上述第一叠对测量图案的一第一部分重叠;
在创建上述第一部分重叠的同时,至少创建上述第二参考图案与上述参考图案模块下方的上述第二叠对测量图案的一第二部分重叠;
判断上述参考图案模块的上述第一参考图案与上述基板的上述第一叠对测量图案之间的一第一叠对误差;
判断上述参考图案模块的上述第二参考图案与上述基板的上述第二叠对测量图案之间的一第二叠对误差;以及
基于上述第一叠对误差及上述第二叠对误差,判断上述基板的上述第一叠对测量图案与上述第二叠对测量图案之间的一整体叠对误差。
2.如权利要求1所述的判断叠对误差的方法,其中,上述第一叠对测量图案包括于一第一布局图案中,上述第一布局图案位在上述基板的一第一薄层中,而上述第二叠对测量图案包括于一第二布局图案中,上述第二布局图案位在上述基板的不同于上述第一薄层的一第二薄层中,且其中上述第一布局图案与上述第二布局图案之间的一叠对误差,是基于上述整体叠对误差来判断的。
3.如权利要求1所述的判断叠对误差的方法,其中,上述第一叠对误差的判断包括:
在上述第一参考图案与上述第一叠对测量图案的上述第一部分重叠上施加一第一光束;以及
分析来自上述第一叠对测量图案及上述第一参考图案的绕射光,以判断上述第一叠对误差。
4.如权利要求3所述的判断叠对误差的方法,其中,上述绕射光的分析包括判断正一阶绕射光与负一阶绕射光之间的一强度差。
5.如权利要求1所述的判断叠对误差的方法,还包括:
在创建上述第一部分重叠之前,产生上述参考图案模块的上述第一参考图案及上述第二参考图案,其中上述第一参考图案所具有的一第一间距,等于上述基板的上述第一叠对测量图案的间距,且上述第二参考图案所具有的一第二间距,等于上述基板的上述第二叠对测量图案的间距。
6.一种判断叠对误差的方法,包括:
对接收自一参考图案模块的一第一参考图案以及接收自一基板的一第一薄层的一第一位置中的一第一叠对测量图案的一第一绕射光组合执行一第一分析,以判断上述参考图案模块的上述第一参考图案与上述基板的上述第一叠对测量图案之间的一第一叠对误差;
对接收自上述参考图案模块的一第二参考图案以及接收自上述基板的一第二薄层的一第二位置中的一第二叠对测量图案的一第二绕射光组合执行一第二分析,以判断上述参考图案模块的上述第二参考图案与上述基板的上述第二叠对测量图案之间的一第二叠对误差;以及
基于上述第一叠对误差及上述第二叠对误差,判断上述基板的上述第一叠对测量图案与上述第二叠对测量图案之间的一整体叠对误差。
7.如权利要求6所述的判断叠对误差的方法,其中,上述参考图案模块被设置为垂直于上述基板,且上述叠对误差的判断方法还包括:
将一同调光束投射至一分光镜;
配置上述分光镜,以将上述同调光束的一第一部分自上述分光镜导引到上述参考图案模块的上述第一参考图案,以及将上述同调光束的一剩余第二部分自上述分光镜导引到上述基板的上述第一薄层的上述第一位置;
通过上述分光镜,结合接收自上述参考图案模块的上述第一参考图案以及接收自上述基板的上述第一位置中的上述第一叠对测量图案的绕射光,以产生上述第一绕射光组合;
通过上述分光镜,将接收自上述第一叠对测量图案以及接收自上述第一参考图案的上述第一绕射光组合导引至一光学系统,其中上述光学系统用于检测及分析;以及
通过耦接至上述光学系统或包括于上述光学系统中的一分析仪模块,分析上述第一绕射光组合的正一阶绕射与负一阶绕射,以判断上述第一叠对误差。
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