[发明专利]三维存储器及其控制方法有效

专利信息
申请号: 202110193612.7 申请日: 2021-02-20
公开(公告)号: CN112863564B 公开(公告)日: 2023-09-29
发明(设计)人: 崔莹;贾建权;宋雅丽;游开开;李楷威 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: G11C8/08 分类号: G11C8/08;G11C16/04;G11C16/10;G11C16/34
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 430079 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 三维 存储器 及其 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种三维存储器的控制方法,其特征在于,所述三维存储器包括多个存储串和多条字线,每个所述存储串包括自上而下依次串联的多个存储单元,每条所述字线与每个所述存储串中相同位置的存储单元相连,所述控制方法包括:

在编程操作的预充电阶段,同时对与每个所述存储串中位于底部的至少一个虚设存储单元相连的至少一条虚设字线、与每个所述存储串的至少一个底部选择管相连的底部选择栅以及与每个所述存储串的底部相连的阵列共源极进行预充电操作;

其中,对所述至少一条虚设字线进行所述预充电操作的时间小于对所述底部选择栅和所述阵列共源极进行所述预充电操作的时间。

2.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,对所述至少一条虚设字线进行所述预充电操作的方法包括:对所述至少一条虚设字线施加第一预充电压。

3.根据权利要求2所述的控制方法,其特征在于,对所述底部选择栅和所述阵列共源极进行所述预充电操作的方法包括:对所述底部选择栅施加与所述第一预充电压不同的第二预充电压,以及对所述阵列共源极施加与所述第一预充电压和所述第二预充电压不同的第三预充电压。

4.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,所述第一预充电压的持续时间小于所述第二预充电压或所述第三预充电压的持续时间。

5.根据权利要求2所述的控制方法,其特征在于,所述第一预充电压的大小为2-3V,和/或所述第一预充电压的持续时间为5-10μs。

6.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,所述第二预充电压的大小为5-6V,和/或所述第二预充电压的持续时间为10-20μs。

7.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,所述第三预充电压的大小为1-3V,和/或所述第三预充电压的持续时间为10-20μs。

8.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,所述第二预充电压的持续时间小于所述第三预充电压的持续时间。

9.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,所述第一预充电压的持续时间为所述第三预充电压的持续时间的75%至80%。

10.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,所述编程为反向编程。

11.一种三维存储器,其特征在于,所述三维存储器包括多个存储串和多条字线,每个所述存储串包括自上而下依次串联的多个存储单元,每条所述字线与每个所述存储串中相同位置的存储单元相连,所述三维存储器还包括:

控制电路,配置为在编程操作的预充电阶段,同时对与每个所述存储串中位于底部的至少一个虚设存储单元相连的至少一条虚设字线、与每个所述存储串的至少一个底部选择管相连的底部选择栅以及与每个所述存储串的底部相连的阵列共源极进行预充电操作;

其中,对所述至少一条虚设字线进行所述预充电操作的时间小于对所述底部选择栅和所述阵列共源极进行所述预充电操作的时间。

12.根据权利要求11所述的三维存储器,其特征在于,所述控制电路对所述至少一条虚设字线进行所述预充电操作的方法包括:对所述至少一条虚设字线施加第一预充电压。

13.根据权利要求12所述的三维存储器,其特征在于,所述控制电路对所述底部选择栅和所述阵列共源极进行所述预充电操作的方法分别包括:对所述底部选择栅施加与所述第一预充电压不同的第二预充电压,以及对所述阵列共源极施加与所述第一预充电压和所述第二预充电压不同的第三预充电压。

14.根据权利要求13所述的三维存储器,其特征在于,所述第一预充电压的持续时间小于所述第二预充电压或所述第三预充电压的持续时间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110193612.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top