[发明专利]湿式处理设备与湿式处理方法在审
申请号: | 202110198397.X | 申请日: | 2021-02-22 |
公开(公告)号: | CN114975159A | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 苏左将;张芳丕 | 申请(专利权)人: | 顶程国际股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B3/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张琳 |
地址: | 中国台湾台中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 设备 方法 | ||
1.一种湿式处理设备,其特征在于,该湿式处理设备包含:
承载盘,配置以承载物件;
去离子水喷洒装置,设于该承载盘的上方,且配置以朝该物件喷洒第一去离子水;
多流体喷洒装置,设于该承载盘的上方,且配置以朝该物件喷洒混合流体,其中该混合流体包含第二去离子水、水蒸汽、与挥发性流体;以及
干燥气体喷射装置,设于该承载盘的上方,且配置以朝该物件喷射干燥气体。
2.根据权利要求1所述的湿式处理设备,其特征在于,该湿式处理设备更包含:
多流体产生装置,与该多流体喷洒装置流体连通,且配置以产生该混合流体与供应该混合流体给该多流体喷洒装置;
挥发性流体供应装置,与该多流体产生装置流体连通,且配置以供应该挥发性流体给该多流体产生装置;
水蒸汽产生器,与该多流体产生装置流体连通,且配置以产生该水蒸汽与供应该水蒸汽给该多流体产生装置;以及
去离子水供应装置,与该多流体产生装置流体连通,且配置以供应该第二去离子水给该多流体产生装置。
3.根据权利要求2所述的湿式处理设备,其特征在于,该挥发性流体为挥发性溶液饱和蒸气,且该挥发性流体供应装置包含:
挥发性溶液饱和蒸气产生器,配置以产生该挥发性溶液饱和蒸气;以及
载气供应装置,配置以提供氮气来将该挥发性溶液饱和蒸气运载至该多流体产生装置。
4.根据权利要求3所述的湿式处理设备,其特征在于:
该载气供应装置更包含一温度控制器,配置以控制该氮气的温度;以及
该去离子水供应装置更包含另一温度控制器,配置以控制该第二去离子水的温度。
5.根据权利要求1所述的湿式处理设备,其特征在于,该干燥气体喷射装置为干燥氮气喷射装置。
6.根据权利要求1所述的湿式处理设备,其特征在于,该干燥气体喷射装置为干燥氮气二流体喷射装置,且该湿式处理设备更包含:
挥发性溶液饱和蒸气产生器,与该干燥气体喷射装置流体连通,且配置以产生该挥发性流体中的挥发性溶液饱和蒸气;以及
载气供应装置,配置以提供干燥氮气来将该挥发性溶液饱和蒸气运载至该干燥气体喷射装置。
7.根据权利要求6所述的湿式处理设备,其特征在于,该湿式处理设备更包含一干燥氮气喷射装置,设于该承载盘的上方,且配置以朝该物件喷射另一干燥氮气。
8.根据权利要求6所述的湿式处理设备,其特征在于,该载气供应装置更包含温度控制器,配置以控制该干燥氮气的温度。
9.根据权利要求1所述的湿式处理设备,其特征在于,该湿式处理设备更包含蚀刻液喷洒装置,设于该承载盘的上方,且配置以朝该物件喷洒蚀刻液。
10.根据权利要求1所述的湿式处理设备,其特征在于,该湿式处理设备更包含:
夹持装置,设于该承载盘上,且配置以夹持固定该物件;
气浮装置,设于该承载盘上,且配置以抬升该物件使该物件与该承载盘分隔开;
转轴,与该承载盘连接,且配置以旋转该承载盘;以及
马达,与该转轴连接,且配置以驱动该转轴。
11.一种湿式处理方法,其特征在于,该方法包含:
利用去离子水喷洒装置对物件喷洒第一去离子水;
利用多流体喷洒装置对该物件喷洒混合流体,其中该混合流体包含第二去离子水、水蒸汽、与挥发性流体;以及
对该物件喷射干燥气体,以吹干该物件。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,对该物件喷洒该第一去离子水与对该物件喷洒该混合流体以交替方式进行。
13.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,该挥发性流体包含挥发性溶液及/或挥发性溶液饱和蒸气。
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