[发明专利]一种用于高端装备制造的铝材双面打磨抛光设备

权利要求书

1.一种用于高端装备制造的铝材双面打磨抛光设备，其特征在于，包括：

底板（1），底板（1）一侧对称式设有第一支撑板（2）；

第一支撑块（3），第一支撑板（2）之间设有第一支撑块（3）；

打磨机构（4），底板（1）上设有打磨机构（4）；

推动机构（5），底板（1）另一侧设有推动机构（5），推动机构（5）与打磨机构（4）配合。

2.根据权利要求1所述的一种用于高端装备制造的铝材双面打磨抛光设备，其特征在于，打磨机构（4）包括：

伺服电机（41），第一支撑块（3）上设有伺服电机（41）；

转轴（42），伺服电机（41）输出轴上设有转轴（42），转轴（42）与底板（1）转动式连接；

第二支撑板（43），底板（1）上对称式设有第二支撑板（43）；

第一全齿轮（44），第二支撑板（43）上均转动式设有第一全齿轮（44），两个第一全齿轮（44）啮合，转轴（42）与前侧的第一全齿轮（44）之间设有传送组件；

第一支撑架（45），底板（1）上对称式设有第一支撑架（45）；

传动轮（46），第一支撑架（45）上均转动式设有两个传动轮（46），第一全齿轮（44）上均设有传动轮（46）；

打磨纸（47），同一侧的三个传动轮（46）之间设有打磨纸（47）。

3.根据权利要求2所述的一种用于高端装备制造的铝材双面打磨抛光设备，其特征在于，推动机构（5）包括：

支撑杆（51），底板（1）另一侧设有多个支撑杆（51）；

放置板（52），支撑杆（51）之间设有放置板（52），放置板（52）一侧位于两个打磨纸（47）之间；

推动块（54），放置板（52）内滑动式设有推动块（54）；

第一连接杆（53），推动块（54）上设有第一连接杆（53）。

4.根据权利要求3所述的一种用于高端装备制造的铝材双面打磨抛光设备，其特征在于，还包括下料机构（6），下料机构（6）包括：

第二支撑架（61），底板（1）上设有第二支撑架（61）；

第三支撑板（62），第二支撑架（61）上设有第三支撑板（62）；

第二连接杆（63），第三支撑板（62）上对称式设有第二连接杆（63）；

下料箱（64），第二连接杆（63）之间设有下料箱（64）；

气缸（65），第三支撑板（62）上设有气缸（65）；

推块（66），气缸（65）伸缩杆上设有推块（66），推块（66）在第三支撑板（62）上滑动。

5.根据权利要求4所述的一种用于高端装备制造的铝材双面打磨抛光设备，其特征在于，还包括夹紧机构（7），夹紧机构（7）包括：

第二支撑块（71），底板（1）上对称式设有第二支撑块（71）；

支板（72），第二支撑块（71）之间设有支板（72）；

第一转动轴（74），支板（72）上设有四个第一转动轴（74）；

连接块（73），相近的两个第一转动轴（74）之间均设有连接块（73）；

异形块（75），外侧的第一转动轴（74）上均转动式设有异形块（75）；

夹紧块（76），异形块（75）上均转动式设有夹紧块（76），夹紧块（76）与打磨纸（47）配合；

弹簧（77），两个异形块（75）之间设有弹簧（77）。