[发明专利]磁头及磁记录装置有效

专利信息
申请号: 202110210042.8 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN113763993B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 成田直幸;高岸雅幸;岩崎仁志;前田知幸 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: G11B5/127 分类号: G11B5/127
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 张谟煜;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁头 记录 装置
【说明书】:

本公开提供能够实现记录密度的提高的磁头及磁记录装置。根据实施方式,磁头包括第1、第2磁极和层叠体。层叠体包括第1~第3磁性层和第1~第4非磁性层。第1磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。第2磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。第3磁性层包括第1元素和第2元素,第1元素包括Fe、Co及Ni中的至少1个,第2元素包括从由Cr、V、Mn、Ti及Sc构成的群选择出的至少1个。

本申请以日本专利申请2020-095414(申请日2020年6月1日)为基础,根据该申请而享受优先的利益。本申请通过参照该申请而包括该申请的内容的全部。

技术领域

本发明的实施方式涉及磁头及磁记录装置。

背景技术

使用磁头向HDD(Hard Disk Drive:硬盘驱动器)等磁记录介质记录信息。在磁记录装置中,期望记录密度的提高。

发明内容

本发明的实施方式提供能够实现记录密度的提高的磁头及磁记录装置。

用于解决课题的手段

根据本发明的实施方式,磁头包括第1磁极、第2磁极及设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间的层叠体。所述层叠体包括第1磁性层、设置于所述第1磁极与所述第1磁性层之间的第2磁性层、设置于所述第1磁极与所述第2磁性层之间的第3磁性层、设置于所述第1磁性层与所述第2磁极之间的第1非磁性层、设置于所述第2磁性层与所述第1磁性层之间的第2非磁性层及设置于所述第3磁性层与所述第2磁性层之间的第3非磁性层。所述第1磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。所述第2磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。所述第3磁性层包括第1元素和第2元素,所述第1元素包括Fe、Co及Ni中的至少1个,所述第2元素包括从由Cr、V、Mn、Ti及Sc构成的群选择出的至少1个。所述第1磁性层及所述第2磁性层不包括所述第2元素。或者,所述第1磁性层及所述第2磁性层中的所述第2元素的浓度比所述第3磁性层中的所述第2元素的浓度低。所述第1非磁性层包括从由Cu、Ag、Au、Al及Cr构成的群选择出的至少1个。所述第2非磁性层包括从由Ta、Pt、W,Mo、Ir、Ru、Tb、Rh、Cr及Pd构成的群选择出的至少1个。所述第3非磁性层包括从由Cu、Ag、Au、Al及Cr构成的群选择出的至少1个。根据上述构成的磁头,能够提供能够实现记录密度的提高的磁头及磁记录装置。

附图说明

图1是例示第1实施方式的磁记录装置的一部分的示意性剖视图。

图2是例示第1实施方式的磁记录装置的示意性剖视图。

图3(a)及图3(b)是例示实施方式的磁记录装置的特性的示意图。

图4(a)~图4(c)是例示实施方式的磁记录装置的特性的示意图。

图5是例示磁记录装置的特性的示意图。

图6是例示第1实施方式的磁记录装置的一部分的示意性剖视图。

图7是例示第1实施方式的磁记录装置的一部分的示意性剖视图。

图8是例示第2实施方式的磁记录装置的一部分的示意性剖视图。

图9是例示磁记录装置的特性的示意图。

图10是例示第2实施方式的磁记录装置的一部分的示意性剖视图。

图11是例示实施方式的磁头的示意性剖视图。

图12是例示实施方式的磁记录装置的示意性立体图。

图13是例示实施方式的磁记录装置的一部分的示意性立体图。

图14是例示实施方式的磁记录装置的示意性立体图。

图15(a)及图15(b)是例示实施方式的磁记录装置的一部分的示意性立体图。

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