[发明专利]气体混合供应装置和供应系统及气体混合供应方法

说明书

本发明涉及一种气体混合供应装置和供应系统及气体混合供应方法，涉及一种用于将供应气体以适合的浓度供应到气体需求处的气体混合供应装置和供应系统及气体混合供应方法。本发明的气体混合供应装置包括：混合系统，混合多个种类的气体并供应到储罐；供应系统，将储存于所述储罐的供应气体供应到气体需求处，其中，所述供应系统构成为包括测量从所述储罐供应的供应气体的浓度的浓度分析部，并且构成为控制部根据由所述储罐气体浓度分析部测量的供应气体的浓度而判断供应到所述气体需求处的供应气体是否合适。

技术领域

本发明涉及一种气体混合供应装置和供应系统及气体混合供应方法，即，涉及一种用于将供应气体以适合的浓度供应到气体需求处的气体混合供应装置和供应系统及气体混合供应方法。

背景技术

通常，利用气体的装置构成为利用适合于各自的目的的供应气体，并且要求各个供应气体根据各自的目的和供应气体的种类而满足预定的浓度和压力等。

尤其，在将气体供应到执行精确工作的气体需求处(例如，半导体处理设备)的气体供应装置的情况下，要求所供应的气体在浓度、压力及温度等方面满足精确的误差范围。

图1示出了向半导体处理设备供应气体的气体供应装置的现有技术的一实施例。

参照图1，根据现有技术的气体供应装置被构成为包括：混合系统1，混合多个种类的气体；储罐2，储存从所述混合系统1供应的混合气体；供应系统3，将储存在所述储罐的气体供应到作为半导体处理设备的气体需求处S。

所述混合系统1包括：多个源气体供应线11、21，分别连接于储存有不同种类的源气体的多个源气体供应储罐10、20，以供应多个种类的源气体；混合部30，混合从所述多个源气体供应线11、21供应的多个种类的源气体；混合气体供应线31，使在所述混合部30混合的气体向所述储罐2流动。

在所述多个源气体供应线11、21配备有：压力调节部(PRV)12、22和流量调节部(MFC)13、23，控制沿各个流路供应的源气体的压力及流量；以及源气体阀14、24，开闭各个流路。

控制部(未图示)通过控制所述压力调节部12、22、所述流量调节部13、23以及所述源气体阀14、24来调节沿着各个流路供应的源气体的压力、流量以及供应与否，来调节所述供应气体的浓度和压力。

所述供应系统3包括：储罐气体供应线40，使储存于所述储罐2的气体向所述气体需求处S流动；储罐气体供应线阀41，开闭所述储罐气体供应线40。

当执行向所述气体需求处S的供应气体的供应时，所述控制部开启所述储罐气体供应线阀41而向所述气体需求处S供应储存于所述储罐2的气体。

在如上所述的现有技术中，存在如下问题：在通过所述混合系统1向所述储罐2供应供应气体的初始阶段，因所述混合系统1的结构限制而发生流量振荡现象，从而储存于所述储罐2的气体的浓度变得不规则。

并且，存在如下问题：在通过所述混合系统1向所述储罐2供应供应气体的初始阶段，随着残留在所述混合气体供应线31上的气体与通过所述混合部30而新供应的气体一起流入并储存到所述储罐2，所述储罐2内部气体的浓度无法满足所述气体需求处S所要求的气体的浓度范围。

并且，存在如下问题：混合气体储存于所述储罐2后，随着时间的经过，混合气体在所述储罐2内部分离为多个种类的气体层，或者多个种类的气体相互反应而沉淀等，所述储罐2内部气氛可能发生变化，因此通过所述供应系统3从所述储罐2供应到所述气体需求处S的气体的浓度无法满足所述气体需求处S要求的气体的浓度范围。

据此，正在积极讨论用于向所述气体需求处S稳定地供应满足预定浓度范围的气体的气体供应装置及气体供应方法。

作为如上所述的气体供应装置的现有技术的一示例，包括韩国授权专利第10-1659200号。

发明内容