[发明专利]气体供应系统

说明书

本发明涉及气体供应系统，涉及一种用于互补地连接相互对应的模块而更加稳定地供应供应气体的气体供应系统。根据本发明的气体供应系统包括：第一气体混合供应装置和第二气体混合供应装置，包括相互对应的多个模块，并且构成为并联连接到气体需求处而分别向所述气体需求处供应混合有多种气体的供应气体；至少一个连接管线，连接所述第一气体混合供应装置与所述第二气体混合供应装置之间，从而互补地连接所述多个模块中相互对应的模块；控制部，对是否使所述多个模块与所述至少一个连接管线相互连接进行控制而选择性地形成所述供应气体的供应流路。

技术领域

本发明涉及一种气体供应系统，涉及一种用于互补地连接相互对应的模块而更加稳定地供应供应气体的气体供应系统。

背景技术

通常，利用气体的装置构成为利用适合各种目的的供应气体，并且根据各种目的和供应气体的种类，要求满足预定的浓度和压力等。

尤其是，对于向执行精密作业的气体需求处(例如，半导体处理设备)供应气体的气体供应装置而言，需要使浓度、压力以及温度等满足精确的误差范围。

图1示出了向半导体处理设备供应气体的气体供应装置的现有技术的一实施例。

参照图1，根据现有技术的气体供应装置包括：混合部1，混合多种气体；罐2，储存从所述混合部1供应的混合气体；供应部3，将储存在所述罐2的气体供应到作为半导体处理设备的气体需求处S。

所述混合部1包括：多个源气体供应管线11、21，分别连接到储存有不同种类的源气体的多个源气体供应罐10、20而供应多种源气体；混合部30，混合从所述多个源气体供应管线11、21供应的多种源气体；混合气体供应管线31，使在所述混合部30混合的气体向所述罐2流动。

在所述多个源气体供应管线11、21配备有：压力调节部(PRV)12、22和流量调节部(MFC)13、23，控制沿各个流路供应的源气体的压力和流量；以及源气体阀14、24，开闭各个流路。

控制部(未示出)将通过控制所述压力调节部12、22、所述流量调节部13、23以及所述源气体阀14、24而调节沿各个流路供应的源气体的压力和流量以及是否进行供应，从而调节所述供应气体的浓度和压力。

所述供应部3包括：罐气体供应管线40，使储存在所述罐2的气体向所述气体需求处S流动；罐气体供应管线阀41，开闭所述罐气体供应管线40。

在对所述气体需求处S供应供应气体的情形下，所述控制部会打开所述罐气体供应管线阀41而向所述气体需求处S供应储存在所述罐2的气体。

在如上所述的现有技术中存在如下问题：在通过所述混合部1向所述罐2供给供应气体的初始阶段，由于所述混合部1的结构限制而发生流量振荡现象，从而使储存在所述罐2的气体的浓度变得不规则。

并且，所述气体供应装置是连接有所述混合部1、所述罐2以及所述供应部3的单个装置，通常根据设置的场所以及设置工艺，在能够容纳的容量方面存在限制，因此，在向所述气体需求处供应所述供应气体时可能会发生问题。

作为一例，在通过所述气体供应装置向所述气体需求处连续供应所述供应气体的情形下，可能会发生在将所述罐2中储存的供应气体全部消耗后，直到所述罐2被重新填满供应气体为止无法向所述气体需求处稳定地供应所述供应气体的问题。

并且，在所述混合部1、所述罐2以及所述供应部3中的一个发生异常的情形下，可能会发生直到该异常解除为止无法向所述气体需求处稳定地供应所述供应气体的问题。

因此，正在活跃地进行关于用于向所述气体需求处S稳定地供应满足预定浓度范围的供应气体的气体供应装置以及气体供应方法的讨论。

作为关于如上所述的气体供应装置的现有技术的一例，有韩国授权专利第10-1659200号。

发明内容