[发明专利]后壳的制作方法、后壳及电子设备在审

专利信息
申请号: 202110214856.9 申请日: 2021-02-26
公开(公告)号: CN114979320A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 周青 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H04M1/02 分类号: H04M1/02
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 宋兴;黄健
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制作方法 电子设备
【说明书】:

本申请提供一种后壳的制作方法、后壳及电子设备,该后壳通过在基材层上形成渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。

技术领域

本申请涉及通信设备技术领域,特别涉及一种后壳的制作方法、后壳及电子设备。

背景技术

目前,手机、电脑等电子设备已经和我们的生活密不可分,生活中随处可见,且极大地提高了人们的生活水平。以手机为例,手机一般包括显示屏、中框、电路板以及后壳,其中,电路板可以设置在中框上,且显示屏和后壳分别位于中框的两侧。

现有技术中,手机的后壳一般采用普通的玻璃或陶瓷材料进行机械加工制成,其中,若需将手机后壳设计为曲面结构,再采用热弯工艺将后壳加工为曲面后壳,然后采用平面抛光工艺或曲面抛光工艺在玻璃或陶瓷材料的表面进行进一步加工,使其表面呈现出光滑和高亮的效果。

然而,采用上述方案时,后壳的表面质感单一,导致视觉效果较差。

发明内容

本申请实施例提供了一种后壳的制作方法、后壳及电子设备,实现了后壳的渐变效果和多样化外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。

本申请实施例第一方面提供一种后壳的制作方法,该后壳的制作方法包括:提供基材层;在所述基材层上形成渐变层。

本申请实施例提供的后壳的制作方法,通过在基材层上形成渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。

在一种可能的实现方式中,所述在所述基材层上形成渐变层,包括:在所述基材层的第一表面上设置第一保护层;使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案,以形成所述渐变层。通过设计不用的预设渐变图案能够实现后壳的多样化的外观需求。

在一种可能的实现方式中,所述使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案,包括:采用曝光显影工艺使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案。

在一种可能的实现方式中,所述采用曝光显影工艺使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案包括:将具有预设渐变图案的光罩挡设在所述第一保护层的上方;采用UV光源透过所述光罩对所述第一保护层进行照射,使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案。

在一种可能的实现方式中,所述光罩上的所述预设渐变图案采用点阵排列的方式形成,所述预设渐变图案被配置为透光区域;且所述光罩沿着所述预设渐变图案的渐变方向,透光率逐渐增大或逐渐减小。通过将光罩上预设渐变图案的设计采用点阵排列的方案进行,可以根据实际需求对点阵的密集度和颗粒度大小按不同的方向进行渐变排布设计,以实现光罩透光区域的图形渐变。

在一种可能的实现方式中,所述第一保护层为感光油墨或光阻。感光油墨和光阻对紫外线敏感,能够通过紫外线固化,采用UV光源透过具有预设渐变图案的光罩对第一保护层进行照射时,感光油墨或光阻能够易于实现在基材层上呈现预设渐变图案。

在一种可能的实现方式中,所述光阻为负型光阻。在光学曝光方式下,负型光阻上层接受能量较下层光阻低,使得负型光阻成像大部分图形为上宽下窄,这样经一次曝光方式即可得到图形,曝光显影效果较优。

在一种可能的实现方式中,所述第一保护层为具有抗酸性能或抗喷射性能的感光油墨或光阻。通过将第一保护层设置为具有抗酸性能或抗喷射性能的感光油墨或光阻,能够避免后续对渐变层进行磨砂处理时对渐变层造成不良影响。第一保护层具有抗酸性能或抗喷射性能能够避免采用化学蒙砂工艺对渐变层进行磨砂处理时,对渐变层产生酸化腐蚀的问题,避免采用物理喷砂工艺对渐变层进行磨砂处理时,对渐变层产生喷射冲蚀的问题。

在一种可能的实现方式中,所述在所述基材层上形成渐变层之后,还包括:对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110214856.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top