[发明专利]一种Micro OLED去除杂质颗粒的基板前处理装置及处理方法有效

专利信息
申请号: 202110219284.3 申请日: 2021-02-26
公开(公告)号: CN112864345B 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 李雪原;邱天霜;郭向阳;林挺;刘胜芳;赵铮涛 申请(专利权)人: 安徽熙泰智能科技有限公司
主分类号: H10K71/00 分类号: H10K71/00;B03C1/30
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 曹政
地址: 241000 安徽省芜湖市芜湖长江*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 micro oled 去除 杂质 颗粒 基板前 处理 装置 方法
【说明书】:

发明公开了一种Micro OLED去除杂质颗粒的基板前处理装置及处理方法,具有:表面处理模块,能够向基板发射等离子流;赋电模块,能够对基板上的杂质颗粒附加电荷;磁场模块,能够对基板上的带电杂质颗粒施加电磁力;输送机构,能够使基板在表面处理模块、赋电模块、磁场模块内输送;基板能够在赋电模块和磁场模块之间往复运动,减少基板表面杂质颗粒,提高产品良品率,同时,在基板表面赋予电荷的同时,可以减小其表面能,使得后续界面接触更加紧密。

技术领域

本发明属于Micro OLED显示领域,尤其涉及一种Micro OLED去除杂质颗粒的基板前处理装置及处理方法。

背景技术

随着科技的进步与科技的发展,人们在追求显示效果的体验上也有着更高的需求,加之穿戴配套显示设备使其物理意义上的方法路径可行,5G时代的到来会解决数据量传输的问题,因此近年来Micro OLED(Organic Light Emitting Display)被称为下一代显示技术的黑马,现已广泛应用于机戴头盔、枪瞄、夜视仪等军用市场,并且随着AR/VR以及自动驾驶等新技术的应用,Micro OLED微显示器将迎来爆发式的增长。

在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:由于MicroOLED子像素及线宽线距非常小(0.1~0.8um),对Particle(杂质颗粒)的管控非常严格,极小的Particle就会带来不良,损失良率。而在正常生产过程中,环境或者传送Particle基本占有80%,因此,如何管控环境或者传送particle至关重要。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种减少基板表面杂质颗粒,提高产品良品率,同时,在基板表面赋予电荷的同时,可以减小其表面能,使得后续界面接触更加紧密的Micro OLED去除杂质颗粒的基板前处理装置及处理方法。

为了解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:一种Micro OLED去除杂质颗粒的基板前处理装置,具有:

表面处理模块,能够向基板发射等离子流;

赋电模块,能够对基板上的杂质颗粒附加电荷;

磁场模块,能够对基板上的带电杂质颗粒施加电磁力;

输送机构,能够使基板在所述表面处理模块、赋电模块、磁场模块内输送;所述基板能够在所述赋电模块和磁场模块之间往复运动。

所述表面处理模块为等离子腔,所述等离子腔内能够朝向所述基板发射等离子流。

所述赋电模块为电场腔,所述磁场模块为磁场腔。

所述磁场腔内还设有杂质颗粒收集模块。

所述等离子腔和电场腔之间还设有真空过渡腔,由于等离子腔在工作时真空度约为10-2Pa,而电场腔在工作时真空度约为10-6Pa,二者之间有真空度差异,因此,需要设置真空过渡腔。

所述等离子腔的前端和磁场腔的后端还设有传送腔,所述传送腔内设有具有传片功能的机械手。

所述磁场腔与后端的传送腔之间还设有真空过渡腔,由于磁场腔在工作时真空度约为10-6Pa,而传送腔在工作时真空度约为10-2Pa,二者之间有真空度差异,因此,需要设置真空过渡腔。

前端的传送腔上设有上料口,后端的传送腔上设有出料口。

相邻腔室之间均通过阀门连接。

一种上述的Micro OLED去除杂质颗粒的基板前处理装置的处理方法,包括如下步骤:

1)用等离子流轰击基板表面杂质颗,使杂质颗失去电中性变为带上正/负电荷;

2)通过电场腔进一步给带有正/负电荷的杂质颗粒赋予能量;

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