[发明专利]反射型阵列基板及其制备方法、显示装置

说明书

本发明实施例提供一种反射型阵列基板及其制备方法、显示装置。反射型阵列基板包括依次叠设的衬底基板、阵列结构层和结构色层，所述结构色层包括结构层，所述结构层包括多个结构阵列，每个结构阵列包括多个子阵列，每个子阵列对应一个子像素，每个子阵列由多个高度相同的纳米柱组成，用于反射一种颜色光。相比使用彩膜层的方案，可以提高显示亮度。

技术领域

本公开实施例涉及显示技术领域，具体涉及一种反射型阵列基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)按照采光方式可以分为透射型、反射型和半反半透型。其中，反射型LCD是利用环境光(如太阳光)的反射进行显示，相比于有背光源的透射型LCD，反射型LCD没有背光源，因此具有对比度高、功耗低、机身薄以及重量轻等优点，且采用自然光反射显示，有利于视觉保护。因此，反射型LCD被越来越多地应用于诸如手机、笔记本电脑、数码相机、个人数字助理等便携式电子终端。

现有反射型LCD的主体结构包括对盒的阵列(Thin Film Transistor，TFT)基板和彩膜(Color Filter，CF)基板，液晶(Liquid Crystal，LC)填充在阵列基板和彩膜基板之间。以自然光为光源时，由于存在CF层，反射率较低，因此存在亮度低的问题，以及以前置光源为光源时，功耗较大的问题。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种反射型阵列基板及其制备方法、显示装置，以解决现有结构亮度低的技术问题。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种反射型阵列基板，包括依次叠设的衬底基板、阵列结构层和结构色层，所述结构色层包括结构层，所述结构层包括多个结构阵列，每个结构阵列包括多个子阵列，每个子阵列对应一个子像素，每个子阵列由多个高度相同的纳米柱组成，用于反射一种颜色光。

可选地，所述结构层为超表面结构。

可选地，用于反射红光的子阵列中纳米柱的周期为160至300nm，纳米柱的高度为80至150nm，纳米柱的结构宽度80至150nm；用于反射绿光的子阵列中纳米柱的周期为240至450nm，纳米柱的高度为80至150nm，纳米柱的结构宽度80至150nm；用于反射蓝光的子阵列中纳米柱的周期为320至600nm，纳米柱的高度为80至150nm，纳米柱的结构宽度80至150nm。

可选地，用于反射红光的子阵列中纳米柱的周期为150至200nm，纳米柱的高度为80至150nm，纳米柱的结构宽度为100至130nm；用于反射绿光的子阵列中纳米柱的周期为150至200nm，纳米柱的高度为80至150nm，纳米柱的结构宽度为70至100nm；用于反射蓝光的子阵列中纳米柱的周期为150至200nm，纳米柱的高度为80至150nm，纳米柱的结构宽度40至70nm。

可选地，所述结构色层还包括位于结构层上的保护层。

可选地，所述阵列结构层包括在所述衬底基板上依次设置的栅电极、栅绝缘层、有源层、源漏电极、钝化层、像素电极和平坦化层。

可选地，所述超表面结构的材料包括铝、银或铝钕合金。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括对盒的第一基板和第二基板，所述第一基板采用如上所述的反射型阵列基板，所述第二基板包括衬底基板和电极层。

本发明实施例还提供了一种反射型阵列基板的制备方法，包括：

衬底基板的一侧制备阵列结构层；

在阵列结构层背离衬底基板的一侧制备结构色层，所述结构色层包括结构层，所述结构层包括多个结构阵列，每个结构阵列包括多个子阵列，每个子阵列对应一个子像素，每个子阵列由多个高度相同的纳米柱组成，用于反射一种颜色光。