[发明专利]OLED显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种OLED显示基板，包括：

驱动基板，所述驱动基板上设置有发光单元；

覆盖所述发光单元的封装结构；

其特征在于，所述封装结构包括沿远离所述驱动基板的方向依次设置的第一无机结构、有机层和第二无机结构；

所述第一无机结构的折射率大于所述有机层的折射率，所述第一无机结构包括至少一层无机层，所述至少一层无机层中一无机层的厚度不大于500nm。

2.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，沿远离所述驱动基板的方向，所述第一无机结构包括层叠设置的第一无机层和第二无机层，所述第一无机层的折射率小于所述第二无机层的折射率，所述第一无机层的厚度不大于500nm。

3.根据权利要求2所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第一无机层的厚度不大于100nm，所述第二无机层的厚度不大于500nm。

4.根据权利要求2所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第二无机层与所述有机层的折射率的差值小于预设阈值。

5.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，所述预设阈值为0.15。

6.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，所述有机层的厚度大于6000nm。

7.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第二无机层的厚度为10-50000nm。

8.根据权利要求2所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第二无机层的厚度大于1500nm。

9.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第一无机结构仅包括第一无机层，所述第一无机层的厚度小于500nm。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的OLED显示基板。

11.一种OLED显示基板的制作方法，包括：

提供一驱动基板；

在所述驱动基板上形成发光单元；

形成覆盖所述发光单元的封装结构；

其特征在于，形成所述封装结构包括：

依次形成第一无机结构、有机层和第二无机结构，所述第一无机结构的折射率大于所述有机层的折射率，所述第一无机结构包括至少一层无机层，所述至少一层无机层中一无机层的厚度不大于500nm。

12.根据权利要求11所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一无机结构包括：

形成层叠设置的第一无机层和第二无机层，所述第一无机层的折射率小于所述第二无机层的折射率，所述第一无机层的厚度不大于500nm。

13.根据权利要求11所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一无机结构包括：

形成第一无机层，所述第一无机层的厚度小于500nm。

14.根据权利要求12或13所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一无机层包括：

采用原子层沉积ALD方式形成所述第一无机层_。