[发明专利]OLED显示基板及其制作方法、显示装置

说明书

本公开提供了一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，OLED显示基板，包括：驱动基板，所述驱动基板上设置有发光单元；覆盖所述发光单元的封装结构；所述封装结构包括沿远离所述驱动基板的方向依次设置的第一无机结构、有机层和第二无机结构；所述第一无机结构的折射率大于所述有机层的折射率，所述第一无机结构包括至少一层无机层，所述至少一层无机层中一无机层的厚度不大于500nm。本公开的技术方案能够改善OLED显示基板的显示效果。

技术领域

本公开涉及显示技术领域，特别是指一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管，简称OLED)显示装置由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点，已被列为极具发展前景的下一代显示技术。

发明内容

本公开要解决的技术问题是提供一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置，能够改善OLED显示基板的显示效果。

为解决上述技术问题，本公开的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种OLED显示基板，包括：

驱动基板，所述驱动基板上设置有发光单元；

覆盖所述发光单元的封装结构；

所述封装结构包括沿远离所述驱动基板的方向依次设置的第一无机结构、有机层和第二无机结构；

所述第一无机结构的折射率大于所述有机层的折射率，所述第一无机结构包括至少一层无机层，所述至少一层无机层中一无机层的厚度不大于500nm。

一些实施例中，沿远离所述驱动基板的方向，所述第一无机结构包括层叠设置的第一无机层和第二无机层，所述第一无机层的折射率小于所述第二无机层的折射率，所述第一无机层的厚度不大于500nm。

一些实施例中，所述第一无机层的厚度不大于100nm，所述第二无机层的厚度不大于500nm。

一些实施例中，所述第二无机层与所述有机层的折射率的差值小于预设阈值。

一些实施例中，所述预设阈值为0.15。

一些实施例中，所述有机层的厚度大于6000nm。

一些实施例中，所述第二无机层的厚度为10-50000nm。

一些实施例中，所述第二无机层的厚度大于1500nm。

一些实施例中，所述第一无机结构仅包括第一无机层，所述第一无机层的厚度小于500nm。

本公开的实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的OLED显示基板。

本公开的实施例还提供了一种OLED显示基板的制作方法，包括：

提供一驱动基板；

在所述驱动基板上形成发光单元；

形成覆盖所述发光单元的封装结构；

形成所述封装结构包括：

依次形成第一无机结构、有机层和第二无机结构，所述第一无机结构的折射率大于所述有机层的折射率，所述第一无机结构包括至少一层无机层，所述至少一层无机层中一无机层的厚度不大于500nm。

一些实施例中，形成所述第一无机结构包括：