[发明专利]边缘环及其更换方法、基片支承台和等离子体处理系统

说明书

本发明提供一种边缘环、基片支承台、等离子体处理系统和边缘环的更换方法，其具有：载置基片的基片载置面；载置边缘环的环载置面，其中所述边缘环以包围被载置于所述基片载置面的基片的方式配置；和用于将所述边缘环通过静电力来吸附并保持于所述环载置面的电极，所述边缘环在与所述环载置面相对的面粘贴有传热片，且经由该传热片载置于所述环载置面，所述传热片在与所述环载置面相对的面形成有导电膜，所述边缘环通过借助由所述电极形成的静电力来吸附被粘贴于该边缘环的所述传热片的所述导电膜，而被保持于所述环载置面。根据本发明，能够维持隔着传热片的边缘环与基片支承台之间的热传导性的同时，提高传热片从基片支承台剥离的剥离性。

技术领域

本发明涉及边缘环、基片支承台、等离子体处理系统和边缘环的更换方法。

背景技术

在专利文献1中，公开了在设置于基片处理装置的聚焦环与载置台之间，配置具有粘接性和柔性的传热片的技术。

专利文献2中公开的基片处理装置包括：具有基部的载置台，该基部具有载置基片的基片载置面和载置聚焦环的聚焦环载置面；以及多个定位销。该基片处理装置包括推升销和输送臂。推升销以能够伸出和没入于聚焦环载置面的方式设置于载置台，将聚焦环按每个定位销举起，使之从聚焦环载置面脱离。输送臂设置在处理室的外侧，经由设置于处理室的送入送出口，在其与推升销之间将聚焦环在安装有定位销的状态下进行更换。

专利文献3中公开的基片处理装置包括多个电极和供给部。上述多个电极设置在载置基片的静电吸盘内部的、与聚焦环对应的区域，对静电吸盘施加用于吸附聚焦环的电压。此外，上述供给部将热介质供给到被以包围载置基片的区域的方式设置于静电吸盘上的聚焦环和静电吸盘所夹着的空间中。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-119334号公报。

专利文献2：日本特开2011-054933号公报。

专利文献3：日本特开2016-122740号公报。

发明内容

发明要解决的问题

本发明的技术维持隔着传热片的边缘环与基片支承台之间的热传导性的同时，提高传热片从基片支承台剥离的剥离性。

用于解决问题的技术手段

本发明的一方式为基片支承台，其具有：载置基片的基片载置面；载置边缘环的环载置面，其中所述边缘环以包围被载置于所述基片载置面的基片的方式配置；和用于将所述边缘环通过静电力来吸附并保持于所述环载置面的电极，所述边缘环在与所述环载置面相对的面粘贴有传热片，且经由该传热片载置于所述环载置面，所述传热片在与所述环载置面相对的面形成有导电膜，所述边缘环通过借助由所述电极形成的静电力来吸附被粘贴于该边缘环的所述传热片的所述导电膜，而被保持于所述环载置面。

发明效果

依照本发明，能够维持隔着传热片的边缘环与基片支承台之间的热传导性的同时，使传热片从基片支承台剥离的剥离性提高。

附图说明

图1是表示本实施方式的等离子体处理系统的概要结构的俯视图。

图2是表示处理模块的概要结构的纵截面图。

图3是表示传热片的概要结构的截面图。

图4是用于说明边缘环的另一例的图。

图5是用于说明升降销的另一例的图。

图6是用于说明升降销的另一例的图。

图7是用于说明边缘环的另一例的图。

附图标记说明