[发明专利]一种高品级立方氮化硼的合成方法在审
申请号: | 202110270720.X | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN112981534A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 张相法;位星;王永凯;王大鹏;刘红伟;张嘉琛;薛磊 | 申请(专利权)人: | 郑州中南杰特超硬材料有限公司 |
主分类号: | C30B29/40 | 分类号: | C30B29/40;C30B1/12;C30B1/02;C30B1/10 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 张丽 |
地址: | 450000 河南省郑州*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 品级 立方 氮化 合成 方法 | ||
1.一种高品级立方氮化硼的合成方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)选用hBN为原料,Li3N+Mg2MHX作为触媒,其中Mg2MHX为Mg2NiH4、Mg2CoH5、Mg2FeH6中的一种或两种以上任意比例的混合物;
(2)原料和触媒的粒度均≤100目,其质量比为hBN:Mg2MHX:Li3N =100:(8~15):(5~10);
(3)将原料和触媒按比例混合后在三维混料机上进行充分混合4~9h;
(4)混合完毕后,将混合料在液压机上压制成圆柱状,装入石墨加热体中,然后装入叶腊石组装块中;
(5)将组装好的叶腊石块放入六面顶压机,在压力4.0~5.5GPa、温度1250℃~1850℃的条件下加热合成6~12min;
(6)合成完毕后,通过酸碱提纯处理得到cBN单晶。
2.根据权利要求1所述高品级立方氮化硼的合成方法,其特征在于,hBN的粒度≤100目、纯度≥96%,Li3N、Mg2MHX粒度均≤100目。
3.根据权利要求1所述高品级立方氮化硼的合成方法,其特征在于,hBN、Mg2MHX、Li3N质量比为hBN:Mg2MHX:Li3N=100:(8~15):(5~6)。
4.根据权利要求1所述高品级立方氮化硼的合成方法,其特征在于,Mg2MHX为Mg2NiH4、Mg2CoH5、Mg2FeH6中的两种或三种时,两者或三者间的质量比为1:1或1:1:1。
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