[发明专利]一种PDK测试的优化方法、装置、存储介质和设备在审
申请号: | 202110275125.5 | 申请日: | 2021-03-15 |
公开(公告)号: | CN112882946A | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 陈岚;郭潇蔚;王志鹏 | 申请(专利权)人: | 中科芯云微电子科技有限公司 |
主分类号: | G06F11/36 | 分类号: | G06F11/36 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 陈志海 |
地址: | 266101 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pdk 测试 优化 方法 装置 存储 介质 设备 | ||
本申请公开了一种PDK测试的优化方法、装置、存储介质和设备,从开发库中查找预设单元列表中所指示的参数化单元的属性信息。对参数化单元的属性信息进行代码编辑,得到参数化单元的版图描述文件,其中,版图描述文件用于指示参数化单元的版图的格式要求。基于版图描述文件生成虚拟库,在获取到PDK测试人员的触发操作的情况下,从虚拟库中调用测试所需的各个参数化单元的版图,组建测试版图,并利用测试版图进行PDK测试。由于参数化单元的版图的格式满足版图描述文件所指示的格式要求,因此,生成测试版图所消耗的时间会有所限制。可见,利用本申请所述的方法,能够有效提高PDK测试的效率。
技术领域
本申请涉及PDK开发技术领域,尤其涉及一种PDK测试的优化方法、装置、存储介质和设备。
背景技术
随着近几年国内集成电路设计业的大力发展,国内的芯片设计企业如雨后春笋,但芯片制造和电子设计自动化(Electronic design automation,EDA)却仍处于比较薄弱的水平,无疑是国家当前想要重点发展的方向。无论是芯片制造还是EDA,都离不开工艺设计工具包(Process Design Kit,PDK)的开发与验证,PDK在集成电路设计生产领域中担任着一个十分重要的角色,起到将芯片设计公司、代工厂和EDA厂商进行互连的重要作用。
当前PDK测试的测试方法主要有两种:一种是基于完成的PDK库,通过手动调用版图,根据测试需求设置参数化单元(Pcell)的配置参数,以此来生成测试版图,再对测试版图进行设计规则检查;另一种是基于完成的PDK库,通过程序来自动调用EDA工具,根据配置文件中所做的配置来批量生成测试版图,然后对测试版图进行设计规则检查。
然而,手动调用版图生成测试版图,其生成效率较低,调用EDA工具生成测试版图,所消耗的时间过长。可见,现有的两种版图生成方法,都会降低PDK测试的效率。
为此,如何有效提高PDK测试的效率,成为本领域亟需解决的问题。
发明内容
本申请提供了一种PDK测试的优化方法、装置、存储介质和设备,目的在于提高PDK测试的效率。
为了实现上述目的,本申请提供了以下技术方案:
一种PDK测试的优化方法,包括:
从开发库中查找预设单元列表中所指示的参数化单元的属性信息;
对所述参数化单元的属性信息进行代码编辑,得到所述参数化单元的版图描述文件;其中,所述版图描述文件用于指示所述参数化单元的版图的格式要求;所述格式要求包括:所述版图所占的层为任意一层、所述版图的面积为不大于预设阈值、所述版图的数量为一个、以及所述版图的形状为预设形状;
基于所述版图描述文件生成虚拟库;
在获取到PDK测试人员的触发操作的情况下,从所述虚拟库中调用测试所需的各个参数化单元的版图,组建测试版图;
利用所述测试版图进行PDK测试。
可选的,还包括:
在正式库开发结束的情况下,获取正式库路径,并利用所述正式库路径替代库声明文件中的虚拟库路径,使得所述测试版图中所使用的版图都变更为所述正式库中的版图。
可选的,所述开发库包括迁移库和原始库;
所述从开发库中查找预设单元列表中所指示的参数化单元的属性信息,包括:
从与所述迁移库对应的源库中,查找预设单元列表中所指示的参数化单元的属性信息;
从与所述原始库对应的开发规则中,查找所述预设单元列表中所指示的参数化单元的属性信息。
可选的,所述基于所述版图描述文件生成虚拟库,包括:
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