[发明专利]显示面板残影风险评估方法及显示面板在审
申请号: | 202110284315.3 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN113075806A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 罗国仁 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 张晓薇 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 风险 评估 方法 | ||
本申请提供一种显示面板残影风险评估方法及显示面板,该显示面板残影风险评估方法通过测量显示面板中液晶的介电系数,确定介电系数是否小于或等于介电阈值,在介电系数小于或等于介电阈值时,判定该显示面板存在残影风险,从而对显示面板的残影风险进行有效预测,为改善产品良率提供指导;本申请通过将显示面板中液晶的介电系数控制为大于介电阈值,大大降低了显示面板出现残影缺陷的风险,提高了产品品质和良率。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板残影风险评估方法及显示面板。
背景技术
液晶显示是当前的主流显示技术,随着市场需求的变化,液晶显示装置正朝着大尺寸、高分辨率的方向发展。但是,随着液晶显示装置尺寸的不断增大以及分辨率的不断提高,诸多问题也在逐渐显现,其中较为严重的就是显示残影问题,尤其是线状残影。目前,线状残影的产生原因尚不得知,因此,在产品检验时无法对该问题进行有效预测,往往会造成一部分存在残影风险的产品流向客户,严重影响用户体验及产品形象。
因此,当前在生产显示面板时,无法对显示面板的残影风险进行有效预测,生产出的显示面板出现残影问题会严重影响显示品质和产品良率。
发明内容
本申请提供一种显示面板残影风险评估方法及显示面板,用于解决当前无法预测显示面板的残影风险的技术问题。
本申请提供一种显示面板残影风险评估方法,其包括:
提供一显示面板,所述显示面板包括液晶;
检测所述液晶的介电系数;
在所述液晶的介电系数小于或等于介电阈值时,判定所述显示面板存在残影风险。
在本申请的显示面板残影风险评估方法中,所述在所述液晶的介电系数小于或等于介电阈值时,判定所述显示面板存在残影风险的步骤,包括:
当所述液晶的介电系数小于或等于负3时;
判定所述显示面板存在残影风险。
在本申请的显示面板残影风险评估方法中,所述在所述液晶的介电系数小于或等于介电阈值时,判定所述显示面板存在残影风险的步骤,还包括:
当所述液晶的介电系数大于负3时;
判定所述显示面板无残影风险。
在本申请的显示面板残影风险评估方法中,所述在所述液晶的介电系数小于或等于介电阈值时,判定所述显示面板存在残影风险的步骤,还包括:
当所述液晶的介电系数小于或等于介电阈值时;
判定所述液晶中存在具有下列通式的至少其中之一的高极性分子,所述通式包括:
其中,n为大于或等于1的整数;
判定所述显示面板存在残影风险。
在本申请的显示面板残影风险评估方法中,所述显示面板还包括第一基板和第二基板,所述液晶位于所述第一基板和所述第二基板之间;
所述检测所述液晶的介电系数的步骤,包括:
检测所述显示面板未设置所述液晶时,所述第一基板与所述第二基板之间的空盒电容;
检测所述液晶在未偏转状态时,所述第一基板与所述第二基板之间的第一介质电容;
检测所述液晶在偏转状态时,所述第一基板与所述第二基板之间的第二介质电容;
根据所述第一介质电容与所述空盒电容的比值,确定第一介电参量;
根据所述第二介质电容与所述空盒电容的比值,确定第二介电参量;
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