[发明专利]一种真空chamber干燥机在审
申请号: | 202110285855.3 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN113606876A | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 万堃鋆 | 申请(专利权)人: | 江苏美客鼎嵘智能装备制造有限公司 |
主分类号: | F26B5/04 | 分类号: | F26B5/04;F26B9/06;F26B25/06;F26B25/18 |
代理公司: | 上海宣宜专利代理事务所(普通合伙) 31288 | 代理人: | 吴启凡 |
地址: | 224200 江苏省盐城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 chamber 干燥机 | ||
一种真空chamber干燥机,涉及LCD/OLED/半导体加工技术领域,包括干燥机包括由上部室体和下部室体贴合形成的密封设置的真空chamber、密封圈、多个设于下部室体上的真空排气通道、真空抽气装置、多个可升降的升降插销、用于带动所有的升降插销同时进行升降运动的升降装置,下部室体对应每个升降插销设有升降针孔,升降插销可相对升降针孔往复运动,升降装置包括框架以及驱动装置,所有的升降插销均安装在框架上,每个升降针孔对应设置有用于将升降插销保持在气密状态的真空压防漏气装置,真空压防漏气装置的两端分别与下部室体、框架连接,通过设置真空压防漏气装置,防止发生真空漏气现象,同时阻挡外部异物进入真空chamber中,从而减小加工玻璃不良的可能性。
技术领域
本发明涉及LCD/OLED/半导体加工技术领域,具体涉及到一种真空 chamber干燥机。
背景技术
随着LCD等液晶显示元件的大型化,在Glass上形成涂布膜的涂布液内的溶剂含量也将增加。由此,近来随着真空环境的形成,通过诱导溶剂顺畅地挥发,使涂抹膜的硬化根据VCD(Vaccum Chamber Dry)工艺和加热工艺,从而引导溶剂挥发,即涂抹膜的硬化综合采用高温干燥工艺来进行Glass干燥及硬化处理。
图4是现有技术在真空干燥工序上使用的Glass真空干燥装置的 图形。参照4,根据传统技术的Glass真空干燥装置(100),上部 chamber(102a)及下部chamber(102b)通过紧密连接形成一个密 封的真空chamber(102),上部chamber(102a)及下部chamber(102b)相互紧密贴合时,为方便连接,沿着下部chamber(102b)或上部 chamber(102a)周围,安装密封圈(120);上述真空chamber(102) 密封空间的内外部安装有多个数目的可升降的升降插销(130)以及使 上述多个升降插销(130)升降的升降装置(150),图4注意为了方便 说明,仅表示有一个升降插销(130)。
为安装升降插销(130),在上述真空chamber(102)中的下部chamber (102b)的底部形成一个升降针孔(110),并且为了对真空chamber(102) 内的封闭空间形成真空环境,下部chamber(102b)的底部中形成了多个真空排气通道(112)。如上所述,在传统技术中,上chamber(102a)和下chamber (102b)相互远离时,从而使真空chamber(102)的封闭空间开放,且在多个升降插销(130)向上移动以支撑Glass(114)的情况下,再下降到下chamber(102b)的底部使Glass(114)安放在正位置后,使上chamber(102a)与下chamber(102b)接触,形成封闭空间,以及通过设置密封圈(120)与外界气密隔绝的状态,再通过多个真空排气通道(112)在真空chamber(102) 内形成真空环境。通过密封圈(120)对真空chamber(102)的内部与外部之间进行气密隔绝使真空chamber(102)内部形成真空压时,真空度和洁净度会上升以及形成一定模式的气流。
此外,在上述传统技术中,在对Glass(114)执行真空干燥处理时,用于实现真空chamber(102)的上部Chamber(102a)和下chamber(102b) 的反复接触或交错等原因造成的密封圈(120)的磨损以及由此引起的异物是必然发生的。该异物在对Glass(114)进行真空干燥时的真空排气过程中通过真空排气通道(112)向外排放,但某些异物受不规则气流模式的影响,可能会在Glass(114)上方的空间飞散,从而对Glass真空干燥造成不良影响。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏美客鼎嵘智能装备制造有限公司,未经江苏美客鼎嵘智能装备制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110285855.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:面清洁头
- 下一篇:音量调节方法、装置、耳机及存储介质