[发明专利]显示面板的制作方法和显示面板有效
申请号: | 202110287203.3 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN113054149B | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
发明(设计)人: | 金玉;李磊;陆蕴雷;王恩来;黄丽丽;马明冬 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制作方法 | ||
1.一种显示面板的制作方法,所述显示面板具有透光区、围绕所述透光区的显示区,其特征在于,包括:
提供衬底,在所述衬底上形成驱动电路层并图案化,并在所述透光区位置露出部分所述衬底;
在所述驱动电路层上形成平坦化层;
对所述平坦化层进行图案化,以形成阳极过孔,并在所述透光区位置减薄处理或全部保留所述平坦化层;
在所述平坦化层上形成阳极;
在形成阳极后,去除位于所述透光区的平坦化层。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,对所述平坦化层进行图案化包括:
采用半色调掩膜版刻蚀所述平坦化层,以在形成阳极过孔的同时减薄位于所述透光区的平坦化层。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述半色调掩膜版包括全透区、不透区和半透区;
所述全透区对应所述阳极过孔,所述半透区对应所述透光区,所述不透区对应所述阳极过孔和所述透光区以外的区域。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述半色调掩膜版包括衬底和位于所述衬底上的透光调整材料;
所述衬底的材料包括氧化硅,所述半透区的透光调整材料包括氧化铬,所述不透区的透光调整材料包括铬。
5.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法,其特征在于,通过调整所述半透区的光透过率来调整减薄的所述透光区的平坦化层的厚度。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,减薄位于所述透光区的平坦化层后剩余的所述平坦化层的厚度范围为0.1μm~0.2μm。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,在所述平坦化层上形成阳极之后,还包括:
在所述阳极上依次形成像素定义层、支撑柱、发光层和阴极;其中,所述阴极覆盖所述发光层和所述支撑柱;
在形成所述阴极之后,去除位于所述透光区的平坦化层。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,去除位于所述透光区的平坦化层的工艺包括:干灰化工艺。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述干灰化工艺采用的气体包括六氟化硫和氧气。
10.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,在所述驱动电路层和所述透光区形成所述平坦化层的工艺包括:涂布工艺。
11.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板由权利要求1-10任一项所述的显示面板的制作方法制作而成。
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