[发明专利]显示面板的制作方法和显示面板

说明书

本发明实施例公开了一种显示面板的制作方法和显示面板。显示面板的制作方法包括：提供衬底，在所述衬底上形成驱动电路层并图案化，并在所述透光区位置露出部分所述衬底；在所述驱动电路层上形成平坦化层；对所述平坦化层进行图案化，并在所述透光区位置减薄处理或全部保留所述平坦化层、减薄或全部保留位于所述盲孔内的平坦化层；在所述平坦化层上形成阳极；在形成阳极后，去除位于所述透光区的平坦化层。与现有技术相比，本发明实施例避免了对透光区的衬底表面直接进行等离子体处理等制程，使得衬底表面能够保持其原本的光滑度，有利于光线在盲孔处进行镜面反射，减少漫反射的发生，从而提升了盲孔处衬底的光线透过率。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的制作方法和显示面板。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示面板的应用越来越广泛，显示面板的扩展功能也越来越多。例如，需要在显示面板中集成摄像头、传感器等器件。此时，需要在显示面板中设置盲孔(即透光区)，以容纳摄像头、传感器等器件。然而，现有的显示面板的制作工艺在形成盲孔时，会导致盲孔处的衬底(例如，玻璃)表面粗糙，影响了光线在盲孔处的传输。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板的制作方法和显示面板，以提升盲孔处衬底的光线透过率。

为实现上述技术目的，本发明实施例提供了如下技术方案：

一种显示面板的制作方法，所述显示面板具有透光区、围绕所述透光区的显示区，制作方法包括：

提供衬底，在所述衬底上形成驱动电路层并图案化，并在所述透光区位置露出部分所述衬底；

在所述驱动电路层上形成平坦化层；

对所述平坦化层进行图案化，以形成阳极过孔，并在所述透光区位置减薄处理或全部保留所述平坦化层；

在所述平坦化层上形成阳极；

在形成阳极后，去除位于所述透光区的平坦化层。

由上述技术方案可以看出，由于位于透光区的衬底表面覆盖有平坦化层，形成了衬底的保护层，避免了阳极镀膜和后续刻蚀工艺对衬底表面形貌造成的损伤，在所述透光区形成盲孔图案。与现有技术相比，本发明实施例避免了对透光区的衬底表面直接进行等离子体处理等制程，使得衬底表面能够保持其原本的光滑度，有利于光线在盲孔处进行镜面反射，减少漫反射的发生，从而提升了盲孔处衬底的光线透过率。

可选地，对所述平坦化层进行图案化包括：采用半色调掩膜版刻蚀所述平坦化层，以在形成阳极过孔的同时减薄位于所述透光区内的平坦化层。这样设置，能够采用一道光罩工艺，在形成阳极过孔的同时，减薄位于透光区内的平坦化层。以及，有利于通过调整半色调掩膜版不同区域的光透过率来调整减薄的平坦化层的厚度，以满足实际需求。

可选地，所述半色调掩膜版包括全透区、不透区和半透区；

所述全透区对应所述阳极过孔，所述半透区对应所述透光区，所述不透区对应所述阳极过孔和所述透光区以外的区域。

可选地，所述半色调掩膜版包括衬底和位于所述衬底上的透光调整材料；

所述衬底的材料包括氧化硅，所述半透区的透光调整材料包括氧化铬，所述不透区的透光调整材料包括铬。

可选地，通过调整所述半透区的光透过率来调整减薄的所述透光区的平坦化层的厚度。具体地，通过控制半透区的透光调整材料的厚度能够控制半透区的光透过率。透光调整材料的厚度越厚，半透区的光透过率越低，刻蚀掉的平坦化层的厚度越薄，剩余的平坦化层保护层的厚度越厚；相反，透光调整材料的厚度越薄，半透区的光透过率越高，刻蚀掉的平坦化层的厚度越厚，剩余的平坦化层保护层的厚度越薄。这样设置，使得显示面板的制作过程操作简单，有利于简化工艺流程，实用性更强。