[发明专利]纳米银氨基修饰的还原氧化石墨烯框架材料及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米银氨基修饰的还原氧化石墨烯框架材料的制备方法，其特征在于,所述方法包括如下步骤：

（1）将多层氧化石墨烯分散在氢氧化钾溶液中，充分搅拌，静置10-12小时，在-20～-195.8℃冷冻干燥，在氩气保护下于600-800℃煅烧2小时，充分洗涤后，在-20～-195.8℃冷冻干燥，制得还原氧化石墨烯框架材料；所述多层氧化石墨烯和氢氧化钾的质量摩尔比为7.5:1g/mol；

（2）将步骤（1）所得的还原氧化石墨烯框架材料加入甲苯中，超声分散20-40分钟，加入3-氨丙基三乙氧基硅烷搅拌12小时，离心，用甲苯充分洗涤，在60℃真空干燥，制得氨基化修饰的还原氧化石墨烯框架材料；

（3）将步骤（2）所得的氨基化修饰的还原氧化石墨烯框架材料、硝酸银加入到去离子水中，超声分散后加入NaBH₄并在室温下在空气中搅拌1小时，离心沉淀物用甲醇和去离子水洗涤并真空干燥，即得纳米银氨基修饰的还原氧化石墨烯框架材料，所述氨基化修饰的还原氧化石墨烯框架材料、硝酸银、NaBH₄的质量摩尔比为：（2.5～7.5）:1:1.5g/mol/mol。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于,所述步骤（1）中氢氧化钾溶液的浓度为3-7mol/L。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于,所述步骤（1）中氢氧化钾溶液的浓度为5mol/L。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于,所述步骤（1）中制得的还原氧化石墨烯框架材料的原子层数为3-20层，每层孔径大小范围为10-50nm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于,所述步骤（3）中氨基化修饰的还原氧化石墨烯框架材料、硝酸银、NaBH₄的质量摩尔比为：5:1:1.5g/moL/moL。

6.一种纳米银氨基修饰的还原氧化石墨烯框架材料，其特征在于所述材料用权利要求1的方法制备获得。