[发明专利]数字曝光方法、电子元器件基板及其制备方法

权利要求书

1.一种数字曝光方法，其特征在于，包括：

提供由多个图案单元构成的目标图案，每个所述图案单元具有目标曝光剂量；

确定每个所述图案单元经过相同理论剂量的曝光后接收到的实际曝光剂量，得到第一实际曝光剂量分布图；

根据所述第一实际曝光剂量分布图，将目标图案拆分为多个分解图案，每个分解图案的形状与所述目标图案的形状相同或者为所述目标图案的形状的一部分，且多个所述分解图案叠加得到所述目标图案；

根据多个所述分解图案进行叠加曝光。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一实际曝光剂量分布图是通过光热转化传感器或光电转化传感器确定的。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标图案中所有所述图案单元的所述目标曝光剂量均相同，所述根据所述第一实际曝光剂量分布图，将目标图案拆分为多个分解图案包括：

根据经过相同理论剂量的曝光后图案单元接收到的实际曝光剂量由大到小，将多个所述图案单元划分为图案单元组1、……、图案单元组n，每个所述图案单元组中，任意两个所述图案单元经过相同理论剂量的曝光后接收到的实际曝光剂量大致相同，n为大于等于2的整数；

根据每个所述图案单元组对应确定一个所述分解图案，其中，图案单元组i对应的分解图案i的形状与图案单元组i至图案单元组n中的图案单元构成的形状相同，i为1～n的整数。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，定义一次曝光后图案单元组j接收到的实际曝光剂量为D_j，图案单元组j对应的分解图案j的曝光次数为N_j，所述图案单元组的曝光次数满足以下条件：

N₁＝A÷D₁；

其中，A为所述目标曝光剂量，j为1～n的整数，k为2～n的整数，l为2～n的整数。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，还包括曝光次数验证步骤，所述曝光次数验证步骤包括：

若N₂+……+N_n≤N₁/2，则验证合格；

若N₂+……+N_n＞N₁/2，则使曝光镜头相对所述目标图案进行移动，然后根据权利要求1～5中任一项所述的方法重新对所述目标图案进行拆分得到新的分解图案，直至验证合格。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述目标剂量的相对误差为a，分解图案m的曝光次数满足以下条件的至少之一：

A×(1-a)÷D_m-N₁＜N_m＜A×(1+a)÷D_m-N₁

其中，m为2～n的整数。

7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括第一效果验证步骤，所述第一效果验证步骤包括：

根据多个所述分解图案进行模拟计算，得到目标图案的模拟实际曝光剂量分布图；

若所述模拟实际曝光剂量分布图的曝光不均匀度小于等于第一阈值，则验证合格；

若所述模拟实际曝光剂量分布图的曝光不均匀度大于所述第一阈值，则重新对所述目标图案进行拆分，直到验证合格。

8.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括第二效果验证步骤，所述第二效果验证步骤包括：

检测根据多个所述分解图案进行叠加曝光得到的实际曝光图形的曝光不均匀度；

若所述实际曝光图形的曝光不均匀度小于等于第二阈值，则验证合格；

若所述实际曝光图形的曝光不均匀度大于所述第二阈值，则重新对所述目标图案进行拆分，直到验证合格。