[发明专利]数字曝光方法、电子元器件基板及其制备方法

说明书

本发明提供了数字曝光方法、电子元器件基板及其制备方法，该数字曝光方法包括：提供由多个图案单元构成的目标图案，每个所述图案单元具有目标曝光剂量；确定每个所述图案单元经过相同理论剂量的曝光后接收到的实际曝光剂量，得到第一实际曝光剂量分布图；根据所述第一实际曝光剂量分布图，将目标图案拆分为多个分解图案，每个分解图案的形状与所述目标图案的形状相同或者为所述目标图案的形状的一部分，且多个所述分解图案叠加得到所述目标图案；根据多个所述分解图案进行叠加曝光。该方法可以大大提高曝光均一性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及曝光方法、电子元器件基板及其制备方法。

背景技术

数字曝光机是一种新型的曝光设备，它通过数字微镜器件(DMD)调制光的反射，得到曝光图案，与传统的曝光机相比(如Nikon)，数字曝光机将设计版图的信息数字化，不需要掩膜版(Mask，光罩)，极大的降低了生产成本，还便于设计的优化，缩短了开发周期。实现数字化曝光的核心器件是DMD，DMD反射光的效率取决于应用专属的设计变量，如照明波长、照明角度、投影孔径尺寸、DMD微镜阵列的填充率等，综合上述各种因素DMD阵列中各个微镜片的总光学效率存在一定差异，这直接影响着光学成像的均一性。

目前提高DMD成像均一性的方法主要有两种：一是控制DMD阵列成像的范围，二是通过多次扫描叠加曝光，但控制DMD阵列成像的范围，选取DMD镜片反射均一性更高的区域进行曝光，减少了一次扫描成像的有效面积，增加了扫描次数，影响设备的产能；而控制机台的移动实现同一位置多次扫描曝光，多次扫描叠加成像也增加了扫描次数，对曝光机的产能有不利影响。

因而，目前数字曝光相关技术仍有待改进。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的目的在于提出一种有效提高数字曝光成像均一性且对曝光机产能没有不利影响的数字曝光方法、制备电子元件的方法和曝光图形。

在本发明的一个方面，本发明提供了一种数字曝光方法。根据本发明的实施例，该方法包括：提供由多个图案单元构成的目标图案，每个所述图案单元具有目标曝光剂量；确定每个所述图案单元经过相同理论剂量的曝光后接收到的实际曝光剂量，得到第一实际曝光剂量分布图；根据所述第一实际曝光剂量分布图，将目标图案拆分为多个分解图案，每个分解图案的形状与所述目标图案的形状相同或者为所述目标图案的形状的一部分，且多个所述分解图案叠加得到所述目标图案；根据多个所述分解图案进行叠加曝光。根据本发明实施例的数字曝光方法，可以大大提高曝光均匀性，成像质量得到明显改善，一方面，曝光图案的关键尺寸波动范围明显变小，另一方面，曝光图案的边缘光滑度得到明显改善，更加平滑。

根据本发明的实施例，所述第一实际曝光剂量分布图是通过光热转化传感器或光电转化传感器确定的。

根据本发明的实施例，所有所述图案单元的所述目标曝光剂量均相同，所述根据所述第一实际曝光剂量分布图，将目标图案拆分为多个分解图案包括：根据经过相同理论剂量的曝光后图案单元接收到的实际曝光剂量由大到小，将多个所述图案单元划分为图案单元组1、……、图案单元组n，每个所述图案单元组中，任意两个所述图案单元经过相同理论剂量的曝光后接收到的实际曝光剂量大致相同，n为大于等于2的整数；根据每个所述图案单元组对应确定一个所述分解图案，其中，图案单元组i对应的分解图案i的形状与图案单元组i至图案单元组n中的图案单元构成的形状相同，i为1～n的整数。

根据本发明的实施例，定义一次曝光后图案单元组j接收到的实际曝光剂量为D_j，图案单元组j对应的分解图案j的曝光次数为N_j，所述图案单元组的曝光次数满足以下条件：N₁＝A÷D₁，其中，A为所述目标曝光剂量，j为1～n的整数，k为2～n的整数，l为2～n的整数。