[发明专利]对准晶片图案的方法

权利要求书

1.一种对准晶片图案的方法，包括:

自第一样本晶片获得第一线上影像；

自该第一线上影像获得对准标记图案的第一轮廓图案；

用该第一轮廓图案产生第一合成影像，其中该第一合成影像是黑白像素影像；

以该第一合成影像为参考，识别待测晶片上的该对准标记图案；以及

根据该待测晶片上的该对准标记图案的位置以及坐标数据，对准至该待测晶片上的待测图案。

2.如权利要求1所述的方法，其中该第一线上影像是灰阶像素影像。

3.如权利要求1所述的方法，其中该第一合成影像包括由该第一轮廓图案定义的黑色像素区域，以及白色像素区域围绕该黑色像素区域。

4.如权利要求1所述的方法，其中该第一合成影像包括由该第一轮廓图案定义的白色像素区域，以及黑色像素区域围绕该白色像素区域。

5.如权利要求1所述的方法，另包括:

将该第一合成影像反色处理，获得第二合成影像；以及

以该第一合成影像以及该第二合成影像为参考，识别该待测晶片上的该对准标记图案。

6.如权利要求1所述的方法，另包括:

自第二样本晶片获得第二线上影像；

自该第二线上影像获得该对准标记图案的第二轮廓图案；以及

用该第一轮廓图案及该第二轮廓图案产生该第一合成影像。

7.如权利要求1所述的方法，其中该第一样本晶片以及该待测晶片通过相同制作工艺制作。

8.如权利要求1所述的方法，其中该第一样本晶片以及该待测晶片通过不同制作工艺制作。

9.如权利要求1所述的方法，其中该第一样本晶片以及该待测晶片通过相同制作工艺并使用相同光掩模制作。

10.一种对准晶片图案的方法，包括:

自多个第一样本晶片获得多个第一线上影像；

自该多个第一线上影像获得对准标记图案的第一轮廓图案；

用该第一轮廓图案产生第一合成影像，其中该第一合成影像是黑白像素影像；

以该第一合成影像为参考，识别待测晶片上的该对准标记图案；以及

根据该待测晶片上的该对准标记图案的位置以及坐标数据，对准至该待测晶片上的待测图案。

11.如权利要求10所述的方法，其中该第一线上影像是灰阶像素影像。

12.如权利要求10所述的方法，其中该第一合成影像包括由该第一轮廓图案定义的黑色像素区域，以及白色像素区域围绕该黑色像素区域。

13.如权利要求10所述的方法，其中该第一合成影像包括由该第一轮廓图案定义的白色像素区域，以及黑色像素区域围绕该白色像素区域。

14.如权利要求10所述的方法，另包括:

将该第一合成影像反色处理，获得第二合成影像；以及

以该第一合成影像以及该第二合成影像为参考，识别该待测晶片上的该对准标记图案。

15.如权利要求10所述的方法，另包括:

自第二样本晶片获得第二线上影像；

自该第二线上影像获得该对准标记图案的第二轮廓图案；以及

用该第一轮廓图案及该第二轮廓图案产生该对准标记图案的该第一合成影像。

16.如权利要求10所述的方法，其中该多个第一样本晶片分别通过不同制作工艺制作。

17.如权利要求10所述的方法，其中该多个第一样本晶片的其中至少一者与该待测晶片通过相同制作工艺制作。

18.如权利要求10所述的方法，其中该多个第一样本晶片的其中至少一者与该待测晶片通过相同制作工艺并使用相同光掩模制作。