[发明专利]高能脉冲电弧蒸发源

说明书

本发明公开了高能脉冲电弧蒸发源，涉及金属工件加工领域，包括箱体，箱体的前部活动铰接有门体，箱体与闭合状态的门体构成六棱柱结构，且箱体的内侧壁和门体的背面安装有若干电弧离子镀装置；转盘包括外盘和放置盘，外盘呈圆盘状并活动套接在箱体的顶部，外盘的上表面开设有圆形凹槽，圆形凹槽的内底壁中心处转动连接有主动齿轮，主动齿轮的底面固定连接有贯穿外盘底壁的转动管，转动管与外盘同为转动连接，圆形凹槽的内周侧面固定连接有齿圈。本发明设置的放置盘可周期性的上下往复运动、自转和公转，待镀膜工件可以均匀接收蒸发的分子形态材料，使工件表面所形成的薄膜尽量均匀。

技术领域

本发明涉及金属工件加工领域，尤其是高能脉冲电弧蒸发源。

背景技术

为了把所需的材料镀制到工件表面需要薄沉积设备，通过加热熔化待镀材料，使其蒸发或溅射出来，在真空中这些蒸发或溅射出来的材料以分子的形态飞向工件，沉积在上面形成薄膜。

电弧镀膜技术的基本原理为，在真空室中，待蒸发材料作为阴极，高熔点金属作为阳极，由外部电源为电极供电，阴极与阳极之间产生电弧放电，由此产生高温使阴极材料熔化蒸发，蒸发的材料以分子形态飞向工件，最终沉积在工件表面形成薄膜，由于蒸发的分子形态材料并非均匀射出，在垂直于蒸发面的方向最多，在偏离垂直的方向密度逐渐减弱，最终导致工件表面所形成的薄膜厚度不均。

因此，为了克服上述的不均匀电镀现象，我们对原有的设备进行改进，使得工件在，避免单一面的电镀富集现象的发生。

发明内容

解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了高能脉冲电弧蒸发源，解决了现有的一些电弧镀膜装置在工件表面所形成的薄膜厚度不均问题。

技术方案

高能脉冲电弧蒸发源，包括箱体，所述箱体的前部活动铰接有门体，所述箱体与闭合状态的门体构成六棱柱结构，且所述箱体的内侧壁和门体的背面安装有若干电弧离子镀装置，所述箱体的内底壁安装有转盘，多个电弧离子镀装置的配合可加快工件的成膜速度，并提高薄膜的均匀度；

所述转盘包括外盘和放置盘，放置盘用于放置待镀膜工件，所述外盘呈圆盘状并活动套接在箱体的顶部，外盘可进行升降，所述外盘的上表面开设有圆形凹槽，所述圆形凹槽的内底壁中心处转动连接有主动齿轮，所述主动齿轮的底面固定连接有贯穿外盘底壁的转动管，转动管与外盘同为转动连接，所述圆形凹槽的内周侧面固定连接有齿圈，所述主动齿轮与齿圈之间设置有若干呈环形阵列分布的从动齿轮，若干所述从动齿轮分别与主动齿轮和齿圈啮合，所述放置盘固定安装在从动齿轮的顶部，主动齿轮转动时，可带动从动齿轮自转并绕主动齿轮的轴线进行公转，使工件成膜更加均匀；

所述箱体的内底壁中心处固嵌有固定管，所述转动管活动套接在固定管内部，所述固定管的内周侧面上开设有弧形槽，所述转动管的外周侧面且靠近转动管的底部固定连接有滑块，所述滑块滑动连接在弧形槽内部，所述转动管的底面中心处开设有矩形槽，所述箱体的底面栓接有的电机，且所述电机的顶部输出端固定连接有转轴，所述转轴活动套接在矩形槽内，转轴转动时可带动转动管转动，转动管可沿着转轴的轴线方向上下滑动，转轴带动转动管转动的同时滑块在弧形槽内滑动，转动管可在转动的同时上下往复运动，最终使放置盘上的工件上下往复运动，使工件成膜更加均匀。

进一步的，所述箱体的内底壁且位于固定管的两侧开设有插孔，所述外盘的底面固定安装有两个导向杆，所述导向杆活动套接在插孔内，使外盘只能上下滑动，不可转动。

进一步的，所述箱体的内侧壁和门体的背面还安装有若干加热块，所述加热块与电弧离子镀装置电性连接，加热块能够提供热度，加快靶材的蒸发。

进一步的，若干所述加热块之间电性连接，若干所述电弧离子镀装置之间电性配合并且相互独立工作，能够调节电镀覆膜的工作状态，也可以进行复合镀膜。