[发明专利]水波特效生成方法及装置、存储介质、计算机设备有效
申请号: | 202110297519.0 | 申请日: | 2021-03-19 |
公开(公告)号: | CN112967367B | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 郭帆 | 申请(专利权)人: | 完美世界(北京)软件科技发展有限公司 |
主分类号: | G06T15/00 | 分类号: | G06T15/00;G06T13/60;A63F13/60 |
代理公司: | 北京中强智尚知识产权代理有限公司 11448 | 代理人: | 黄耀威 |
地址: | 100085 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水波 特效 生成 方法 装置 存储 介质 计算机 设备 | ||
1.一种水波特效生成方法,其特征在于,包括:
获取待生成水波特效的虚拟场景对应的预设扰动特效贴图;
按照多个预设偏移方向及其各自对应的预设偏移速度,分别对所述预设扰动特效贴图进行采样偏移,得到与每个预设偏移方向各自对应的多个扰动贴图分量,其中,所述预设扰动特效贴图包括二维法线贴图,所述预设偏移方向包括所述预设扰动特效贴图的对角线形成的四个方向;基于各预设偏移方向对应的扰动贴图分量,确定目标扰动贴图;
采样所述目标扰动贴图对应的目标扰动通道,其中,所述目标扰动通道包括R通道和G通道;
基于所述目标扰动通道渲染所述虚拟场景的展示区域UV,以使所述展示区域附带有扰动特效。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标扰动通道渲染所述虚拟场景的展示区域UV之后,所述方法还包括:
获取所述虚拟场景对应的预设焦散特效贴图,采样所述预设焦散特效贴图对应的多组目标焦散通道,其中,所述预设焦散特效贴图为三维贴图;
基于所述目标焦散通道渲染所述展示区域UV,以使所述展示区域附带有焦散特效。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标焦散通道渲染所述展示区域之前,所述方法还包括:
按照所述展示区域的颜色数据,调节所述目标焦散通道对应的焦散颜色;和/或,
调用预设颜色函数,调节所述目标焦散通道对应的焦散颜色。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述获取所述虚拟场景对应的预设焦散特效贴图,具体包括:
获取客户端对应的渲染内存信息,并根据所述客户端的渲染内存大小选择所述预设焦散特效贴图。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标扰动通道渲染所述虚拟场景的展示区域之后,所述方法还包括:
获取所述虚拟场景对应的预设遮罩图像,并在所述展示区域中添加所述预设遮罩图像。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标扰动通道渲染所述虚拟场景的展示区域之后,所述方法还包括:
调用预设距离函数构建与所述展示区域匹配的渐变场,并在所述展示区域中添加所述渐变场;
响应于遮罩区域控制指令,利用预设平滑阶梯函数调节所述渐变场的渐变区域。
7.一种水波特效生成装置,其特征在于,包括:
扰动贴图生成模块,用于获取待生成水波特效的虚拟场景对应的预设扰动特效贴图;按照多个预设偏移方向及其各自对应的预设偏移速度,分别对所述预设扰动特效贴图进行采样偏移,得到与每个预设偏移方向各自对应的多个扰动贴图分量,其中,所述预设扰动特效贴图包括二维法线贴图,所述预设偏移方向包括所述预设扰动特效贴图的对角线形成的四个方向;基于各预设偏移方向对应的扰动贴图分量,确定目标扰动贴图;
扰动通道采样模块,用于采样所述目标扰动贴图的目标扰动通道,其中,所述目标扰动通道包括R通道和G通道;
扰动特效生成模块,用于基于所述目标扰动通道渲染所述虚拟场景的展示区域UV,以使所述展示区域附带有扰动特效。
8.一种存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至6中任一项所述的方法。
9.一种计算机设备,包括存储介质、处理器及存储在存储介质上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至6中任一项所述的方法。
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