[发明专利]一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置

权利要求书

1.一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，其特征在于：包括敲击杆，敲击杆的一端装配有敲击碳头，敲击杆的另一端装配在转动杆的一端，敲击杆和转动杆呈直角状布置，转动杆转动安装，转动杆上设置有磁流体组件，转动杆与调节其进行转动的转动调节组件相连接；磁流体组件上设置有散热结构；所述的散热结构为磁流体组件上设置的散热管道构成；磁流体组件包括磁流体主体座，磁流体主体座内设有贯穿磁流体主体座的腔道，磁流体主体座穿套安装在转动杆上，磁流体主体座的内装配有磁流体，磁流体的两端分别设置有用于实现磁流体主体座和转动杆之间密封装配的A、B密封件；散热管道设置在磁流体主体座上；散热管道的长度方向与转动轴的长度方向保持一致；转动杆的一端转动安装在A支座上，转动杆的另一端安装在B支座上，A、B支座之间的转动杆的杆身上装配磁流体组件，A支座外侧的转动杆端部装配敲击杆，B支座外侧的转动杆的旁侧设置有用于检测转动杆转动状态的检测组件，检测组件将检测的信号输送到调控组件进行分析处理，调控组件依据分析处理的结果调控转动调节组件的运行状态。

2.根据权利要求1所述的采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，其特征在于：敲击杆远离转动杆的端部设置有装配孔，装配孔为通孔，敲击碳头的局部延伸至装配孔一端的外部用于敲击碳靶，装配孔的另一端设置有用于抵靠敲击碳头的碳头抵靠块，碳头抵靠块的外表面和敲击碳头相贴合抵靠。

3.根据权利要求2所述的采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，其特征在于：B支座外侧的转动杆的杆身上装配有传感片，传感片上设置由于标记的缺口处，检测组件由传感片外周设置的用于检测缺口处位置的A、B传感器组成，A、B传感器装配在B支座上。

4.根据权利要求3所述的采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，其特征在于：转动调节组件包括转动杆上设置的A齿轮和敲击安装座上设置的旋转气缸，旋转气缸的动力输出转轴上设置有B齿轮，A、B齿轮传动啮合连接，控制组件包括PC端、正转控制器和反转控制器，PC端接收A、B传感器检测的信号进行分析处理，正转控制器和反转控制器通过调控通气状态调整旋转气缸的动力输出转轴进行正、反转，PC端发送指令调控正、反转控制器的通气状态。