[发明专利]一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置

说明书

本发明涉及一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，包括敲击杆，敲击杆的一端装配有敲击碳头，敲击杆的另一端装配在转动杆的一端，敲击杆和转动杆呈夹角状布置，转动杆转动安装，转动杆上设置有磁流体组件，转动杆与调节其进行转动的转动调节组件相连接。上述方案中，将敲击装置的传统油封结构更换为磁流体密封结构，可以解决敲击杆部位漏气的问题。

技术领域

本发明涉及溅射镀膜设备领域，具体涉及一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置。

背景技术

纯离子镀膜（PIC）设备作为一种新型镀膜设备，可以制备高性能的类金刚石涂层、纯金属及其他复合膜层，制备的膜层具备硬度高、耐磨性能好、耐腐蚀能诸多优点，可广泛应用于军工和民用的多个领域。PIC设备是通过敲击碳头敲击靶材引弧产生弧光放电，敲击装置是通过齿轮和密封组件联合运作的，传统的敲击装置一般使用双油封、密封圈实现气体密封的功能，实际使用过程中，由于敲击装置温度往往比较高，油封在长期高温下往复摩擦经常出现磨损的情况，造成敲击装置漏气，从而使得膜层性能急剧下降甚至整炉产品报废的情况。

发明内容

本发明的目的是提供一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，其至少可以克服上述一种缺陷。

一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，其特征在于：包括敲击杆，敲击杆的一端装配有敲击碳头，敲击杆的另一端装配在转动杆的一端，敲击杆和转动杆呈夹角状布置，转动杆转动安装，转动杆上设置有磁流体组件，转动杆与调节其进行转动的转动调节组件相连接。

进一步的方案为：磁流体组件上设置有散热结构。

所述的散热结构为磁流体组件上设置的散热管道构成。

磁流体组件包括磁流体主体座，磁流体主体座采用可导磁的材料做成，磁流体主体座内设有贯穿磁流体主体座的腔道，磁流体主体座穿套安装在转动杆上，磁流体主体座的腔道内装配有磁流体，组装转动杆时，转动杆穿过磁流体主体的腔道进行组装，磁流体则整环形液态依附在磁流体主体的腔道壁及转动杆的圆周表面，磁流体的两端分别设置有用于实现磁流体主体座和转动杆之间密封装配的A、B密封件。

散热管道设置在磁流体主体座上。

散热管道的长度方向与转动轴的长度方向保持一致。

详细的方案为：

转动杆的一端转动安装在A支座上，转动杆的另一端安装在B支座上，A、B支座之间的转动杆的杆身上装配磁流体组件，A支座外侧的转动杆端部装配敲击杆，B支座外侧的转动杆的旁侧设置有用于检测转动杆转动状态的检测组件，检测组件将检测的信号输送到调控组件进行分析处理，调控组件依据分析处理的结果调控转动调节组件的运行状态。

敲击杆远离转动杆的端部设置有所述的装配孔，装配孔为通孔，敲击碳头的局部延伸至装配孔一端的外部用于敲击碳靶，装配孔的另一端设置有用于抵靠敲击碳头的碳头抵靠块，碳头抵靠块的外表面和敲击碳头相贴合抵靠。

B支座外侧的转动杆的杆身上装配有传感片，传感片上设置由于标记的缺口处，检测组件由传感片外周设置的用于检测缺口处位置的A、B传感器组成，A、B传感器装配在B支座上。

转动调节组件包括转动杆上设置的A齿轮和敲击安装座上设置的旋转气缸，旋转气缸的动力输出转轴上设置有B齿轮，A、B齿轮传动啮合连接，控制组件包括PC端、正转控制器和反转控制器，PC端接收A、B传感器检测的信号进行分析处理，正转控制器和反转控制器通过调控通气状态调整旋转气缸的动力输出转轴进行正、反转，PC端发送指令调控正、反转控制器的通气状态。

A支座外侧的转动杆的杆身上设置有A螺纹杆段，敲击杆的端部设置有螺纹安装孔，敲击杆通过螺纹安装孔装配在A螺纹杆段上，敲击碳头敲击碳靶时，碳靶作用于敲击碳头的反作用力使得螺纹安装孔和A螺纹杆段之间具有拧紧的趋势。