[发明专利]显示面板及显示面板的制备方法

权利要求书

1.一种显示面板，所述显示面板包括像素发光区域和设置在相邻两所述像素发光区域之间的像素非发光区域，其特征在于，所述显示面板包括：

第一基板和相对所述第一基板设置的第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的黑矩阵层和吸湿层；

其中，所述吸湿层设置在所述第二基板上，所述黑矩阵层设置在所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上，且所述吸湿层和所述黑矩阵层对应的设置在所述像素非发光区域内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述吸湿层的材料包括吸湿颗粒、溶剂以及分散剂中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述吸湿颗粒包括纳米粒子，所述纳米粒子包括IIA族金属和IIA族金属的氧化物中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵层的厚度小于10um，且所述黑矩阵层相对所述第一基板表面的锥角大于30°。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板包括：

阵列基板；

像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上，且设置在所述像素非发光区域对应的位置内；

发光层，所述发光层设置在所述阵列基板上且覆盖所述像素定义层；

阴极层，所述阴极层设置在所述发光层上；以及，

复合阻挡层，所述复合阻挡层设置在所述阴极层上。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述复合阻挡层包括有机层和无机层，所述有机层与所述无机层相互交替设置。

7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S100：提供第一基板，并在所述第一基板上设置黑矩阵层；

S101：提供一转印辊，并在所述转印辊上制备转印膜层，所述转印膜层包括吸湿剂；

S102：将所述转印膜层图案化转印至所述黑矩阵层上，并在所述黑矩阵层上形成吸湿层；

S103：提供第二基板，在所述第二基板上设置像素定义层，并依次在所述第二基板上设置阳极层、发光层以及阴极层；

S104：在所述阴极层上制备复合阻挡层，并将所述复合阻挡层与所述吸湿层粘接，得到所述显示面板。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S100中，所述黑矩阵层设置在所述显示面板的像素非发光区域内。

9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S102中，在转印所述转印膜层的过程中，控制所述转印辊的压力，使所述转印膜层在转印过程中的变形量小于10％。

10.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S104中，在制备所述复合阻挡层时，设置无机阻水层和有机缓冲层依次交叠的复合膜层。