[发明专利]含氟化镁膜层的减反膜系及其制备方法

权利要求书

1.一种含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，包括：

基底层(10)；

多个第一膜层(20)；

多个第二膜层(30)，所述第一膜层(20)的折射率大于所述第二膜层(30)的折射率，多个所述第一膜层(20)和多个所述第二膜层(30)中的至少一个所述第二膜层(30)交替叠置形成过渡层，所述过渡层与所述基底层(10)连接，所述过渡层远离所述基底层(10)的一侧为所述第一膜层(20)；

氟化镁膜层(40)，所述氟化镁膜层(40)连接在所述过渡层远离所述基底层(10)的一侧，所述氟化镁膜层(40)远离所述过渡层的一侧表面与多个所述第二膜层(30)中的至少另一个所述第二膜层(30)连接，所述第一膜层(20)的折射率大于2.3，所述第二膜层(30)的折射率小于1.7，所述第一膜层(20)与所述第二膜层(30)的折射率差大于0.6；

所述减反膜系对波长在850nm至1000nm的范围内的光的波长的最大反射率小于等于1％；

镀膜形成减反膜系，离子源辅助沉积系统对膜层进行辅助沉积以增强膜层的致密度，冷却后对所述减反膜系进行退火处理。

2.根据权利要求1所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述第一膜层(20)的材料为Ti的氧化物。

3.根据权利要求1所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述第二膜层(30)的材料包括SiO₂、SiO₂与Al₂O₃的混合物。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述基底层(10)材料包括EP、APEL、K26R中的至少一种。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述基底层(10)的折射率大于等于1.5且小于等于1.8。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述过渡层为五层时，从所述基底层(10)的一侧开始为第一个所述第一膜层(20)、第一个所述第二膜层(30)、第二个所述第一膜层(20)、第二个所述第二膜层(30)、第三个所述第一膜层(20)形成所述过渡层，且第一个所述第一膜层(20)、第一个所述第二膜层(30)、第二个所述第一膜层(20)、第二个所述第二膜层(30)、第三个所述第一膜层(20)、所述氟化镁膜层(40)和所述第三个所述第二膜层(30)的厚度的比值为10:30:50:10:30:90:15。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述过渡层为七层时，从所述基底层(10)的一侧开始为第一个所述第一膜层(20)、第一个所述第二膜层(30)、第二个所述第一膜层(20)、第二个所述第二膜层(30)、第三个所述第一膜层(20)、第三个所述第二膜层(30)、第四个所述第一膜层(20)形成所述过渡层，且第一个所述第一膜层(20)、第一个所述第二膜层(30)、第二个所述第一膜层(20)、第二个所述第二膜层(30)、第三个所述第一膜层(20)、第三个所述第二膜层(30)，第四个所述第一膜层(20)、所述氟化镁膜层(40)和所述第四个所述第二膜层(30)的厚度的比值为10:50:20:20:100:10:30:90:15。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述减反膜系对波长在430nm至750nm的范围内的光的波长的最大反射率小于等于0.6％。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述减反膜系对波长在420nm至500nm的范围内的光的最小透过率大于等于93％。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的含氟化镁膜层的减反膜系，其特征在于，所述减反膜系对波长在500nm至850nm的范围内的光的最小透过率大于等于97％。