[发明专利]含氟化镁膜层的减反膜系及其制备方法

说明书

本发明提供了一种含氟化镁膜层的减反膜系及其制备方法。含氟化镁膜层的减反膜系包括：基底层；多个第一膜层；多个第二膜层，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率，多个第一膜层和多个第二膜层中的至少一个第二膜层交替叠置形成过渡层，过渡层与基底层连接，过渡层远离基底层的一侧为第一膜层；氟化镁膜层，氟化镁膜层连接在过渡层远离基底层的一侧，氟化镁膜层远离过渡层的一侧表面与多个第二膜层中的至少另一个第二膜层连接。本发明解决了现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题。

技术领域

本发明涉及光学元件镀膜设备技术领域，具体而言，涉及一种含氟化镁膜层的减反膜系及其制备方法。

背景技术

随着手机镜头技术的发展，人们对镜片的光学性能要求也越来也高。目前手机镜片都是镀制减反膜系，膜系结构为TiO₂和SiO₂交替，这种膜系达成的反射率已逐渐无法满足人们对手机镜头的要求，而且在PVD镀膜设备中镀膜，对于具有一定曲率的镜片，其镜片边缘与中心区域的反射率存在差异，边缘反射率会进一步提高，从而导致镜头产生许多不良的鬼影。因此，进一步降低镜片反射率十分必要。

MgF₂是光学薄膜领域内常用的低折射率材料，折射率低于SiO₂，使用此材料镀制的减反膜反射率会进一步降低。但是在树脂镜片上，使用传统工艺镀制的MgF₂膜层会出现膜层信赖性低下或者膜层不牢固的问题。所以，通过膜系设计及工艺设计提高含MgF₂膜层的信赖性问题具有较强的应用价值。

也就是说，现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种含氟化镁膜层的减反膜系及其制备方法，以解决现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种含氟化镁膜层的减反膜系，包括：基底层；多个第一膜层；多个第二膜层，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率，多个第一膜层和多个第二膜层中的至少一个第二膜层交替叠置形成过渡层，过渡层与基底层连接，过渡层远离基底层的一侧为第一膜层；氟化镁膜层，氟化镁膜层连接在过渡层远离基底层的一侧，氟化镁膜层远离过渡层的一侧表面与多个第二膜层中的至少另一个第二膜层连接。

进一步地，第一膜层的折射率大于2.3。

进一步地，第二膜层的折射率小于1.7。

进一步地，第一膜层的材料为Ti的氧化物。

进一步地，第二膜层的材料包括SiO₂、SiO₂与Al₂O₃的混合物。

进一步地，基底层材料包括EP、APEL、K26R中的至少一种。

进一步地，基底层的折射率大于等于1.5且小于等于1.8。

进一步地，过渡层为五层时，从基底层的一侧开始为第一个第一膜层、第一个第二膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层形成过渡层，且第一个第一膜层、第一个第二膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层、氟化镁膜层和第三个第二膜层的厚度的比值为10:30:50:10:30:90:15。

进一步地，过渡层为七层时，从基底层的一侧开始为第一个第一膜层、第一个第二膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层、第三个第二膜层、第四个第一膜层形成过渡层，且第一个第一膜层、第一个第二膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层、第三个第二膜层，第四个第一膜层、氟化镁膜层和第四个第二膜层的厚度的比值为10:50:20:20:100:10:30:90:15。

进一步地，减反膜系对波长在430nm至750nm的范围内的光的波长的最大反射率小于等于0.6％。