[发明专利]用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法及其装备

权利要求书

1.用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是消毒和核酸清除的方法是用氙准分子光源辐射空气制备的氙准分子臭氧气体与含有过氧化氢的混合气体以正负气压脉动交替地处理物料的表面进行消毒和核酸清除，用氙准分子光源辐射空气制备的氙准分子臭氧气体与含有过氧化氢的混合气体交替地处理物料的表面时的步骤是：

I)先用氙准分子光源辐射空气制备的氙准分子臭氧气体处理物料的表面，然后

II)用浓度为20％～60％(V/V)的液相过氧化氢处理表面，或/和用气相过氧化氢处理物料的表面，气相过氧化氢在过氧化氢的混合气体的浓度应大于20％，

III)两种消毒剂交替处理的次数≥1次；

臭氧与过氧化氢接触物料表面的时间每次应≥1min。

2.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是装备的核心实质是在一个密闭的空间内对物料的表面进行消毒和核酸清除，其密闭空间首选是金属容器，金属容器的内胆的材料是304或316不锈钢材料。

3.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是在向密闭的空间注入臭氧和过氧化氢时，可采用负压或/和正压或/和正压负压交替地注入方式注入臭氧和过氧化氢，正压应控制在+1kPa至+1000kPa之间，并维持时间≥5min；负压的压力应控制在-1kPa至-1000kPa之间，并维持时间≥1min。

4.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是氙准分子光源制备臭氧所需要的气源为空气气源或/和纯度≥50％以上的氧气。

5.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是氙准分子光源制备臭氧所需要的气源为纯度大于85％以上的氧气时，采用PSA制氧机或氧气钢瓶。

6.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是过氧化氢气体是采用30％以上的过氧化氢溶液，或/和采用过氧化氢银离子螯合消毒剂，或/和采用过氧化氢与过氧乙酸的混合型消毒剂、或/和过氧化氢磷酸钠复方消毒剂、或/和过氧化氢戊二醛复方消毒剂。

7.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是汽化过氧化氢的方法可采用蒸汽法和/或雾化法。

8.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是密闭空间的负压和正压的耐压均在10kPa-10000kPa之间。

9.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是密闭空间内的温度控制在0℃至60℃之间，相对湿度控制在20％至99％之间。

10.根据权利要求1所述的用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法，其特征是消毒后的残余臭氧和过氧化氢经过降解材料降解后排泄，使用的降解材料是二氧化锰降解过滤材料。