[发明专利]用氙准分子光源制备臭氧的脉动消毒方法及其装备

说明书

本发明涉及采用氙准分子光源发射的172nm深紫外光臭氧现用现制技术的消毒方法和核酸清除方法及其配套装备的设计方法，是应用于低温消毒领域和核酸清除领域的一类新颖的消毒和核酸清除技术和新型的低温消毒与核酸清除装备的设计方案。

技术领域

本发明涉及采用氙准分子光源发射的172nm深紫外光臭氧现用现制技术的消毒方法和核酸清除方法及其配套装备的设计，是应用于低温消毒领域和核酸清除领域的一类新颖的消毒和核酸清除技术和新型的低温消毒与核酸清除装备的设计方案。

背景技术

低温消毒技术始终是人类面对有害微生物防御中迫切需要的技术。但是低温消毒所面临的问题是大量采用对环境造成污染的化学消毒剂，如含氯、含溴、含碘的化学消毒剂、烷烃类消毒剂，如环氧乙烷，等。一些化学消毒剂不存在化学污染问题，但是存在易燃易爆炸和强烈的腐蚀性，如过氧化氢、过氧乙酸等。

目前还有一些低温消毒技术在被引起重视，其中如大气低温等离子消毒、大气低温等离子射频消毒的技术，被应用于当前的疫情消杀。但是当仔细审视这些技术时，发现起主要消杀作用的仍然是活性氧原子。但是这些技术在应用时，会同时滋生氮氧化合物，而一些有效的实验研究证实，氮氧化合物对有害微生物的消杀能力是非常低下的，更为重要的是氮氧化合物会与活性氧原子产生化学反应，将活性氧原子还原成氧气和其他新的氮氧化合物，由此降低了大气低温等离子和大气低温射频等离子所产生的活性氧原子的量，降低活性氧原子的浓度，从而削弱活性氧原子的消杀能力。

采用两种或两种以上的化学消杀剂显然会提高化学消杀剂的消杀效果。例如专利201180044130.X就公布了一种使用环氧乙烷与过氧化氢交替消杀清除核酸的低温核酸清除方法。将核酸清除所需要的消杀强度远远的大于将有害微生物灭活所需要的消杀强度，所以该专利的核酸清除方法是可以广泛的应用于需要低温消杀的场合。但是环氧乙烷的毒性和残留显然对使用场所存在严重的环境污染和对周边人存在严重损伤的因素，致使这种较好的两种化学消杀剂协同应用方法受到限制。

臭氧显然具有优越于绝大多数化学消杀剂的消杀能力，其原因是臭氧的活性氧原子在发挥着强大无比的消杀作用。但是目前以空气为气源的臭氧制备方法存在同时滋生氮氧化物的弊端，例如介质阻挡放电制备臭氧消毒方式，以及上面提到的大气低温等离子和大气低温射频等离子消毒方式，都存在同时滋生氮氧化合物的弊端，这样就很难将臭氧的消杀作用发挥出来。这就是尽管从化学理论的角度认为臭氧是当前消毒能力最强、消毒速度最快、消毒后残留物最环保的消杀剂，但是在消杀实践中仍然被旁落的主要原因。

采用更好的不会滋生氮氧化合物的臭氧制备技术，并以纯粹的臭氧消毒技术为基础，与其他化学消杀剂配套，尤其是与那些使用后代谢产物不会进一步污染环境的化学消杀剂配套，形成协同消杀作用，且不会污染环境的消杀技术，显然是具有技术进步意义的。

本发明人已经提交了专利申请文件：《集中传输式氙准分子光源臭氧发生器》(202010875608.4)、《集中传输式氙准分子光源臭氧发生器的臭氧喷洒架构》(202010867969.4)、《氙准分子臭氧汽雾的一种一流体喷嘴的喷洒架构》(202021830130.5)、《氙准分子臭氧汽雾的一种二流体喷嘴的喷洒架构》(202021830451.5)，提出了使用氙准分子光源激发空气中的氧气产生臭氧的现用现制技术和臭氧气雾喷洒技术应用于消杀领域。由于氙准分子光源所产生的172nm窄频紫外光的辐射能可以达到氧分子激发成活性氧原子所需要的能量，而达不到氮分子激发成活性氮原子的能量，所以使用氙准分子光源制备臭氧就不会产生可以减弱活性氧原子消杀能力的氮氧化合物。本专利申请所提出的技术是上述已经提交的专利申请技术的后续技术专利申报。与本专利申报文件提交的同日，本发明人也同时提交了《氙准分子光源臭氧与过氧化氢交替脉动消毒柜》和《一种氙准分子光源臭氧脉动消毒柜》的专利申请文件。本专利申请文件所表述的技术实质，在同日提交的两个专利申请文件中也同时体现。

发明内容