[发明专利]一种用于基片的烘烤设备在审
申请号: | 202110319413.6 | 申请日: | 2021-03-25 |
公开(公告)号: | CN112947003A | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 冀然 | 申请(专利权)人: | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/00 |
代理公司: | 山东重诺律师事务所 37228 | 代理人: | 王鹏里 |
地址: | 266000 山东省青岛市城阳区城*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 烘烤 设备 | ||
1.一种用于基片的烘烤设备,其特征在于,包括:
外壳,其包括具有容纳室的座体,以及与座体铰接的盖体,盖体上设置有通风腔以及与通风腔连通的通风口,所述盖体翻转后与座体配合形成工作腔,工作腔与通风腔连通;
加热盘,其连接于所述容纳室的口部,所述加热盘的顶面上设置有真空槽组,与真空槽组连接有真空发生装置,以在真空槽组内产生负压用于将基片固定在加热盘顶面上;
排气装置,其设置于所述容纳室内,所述排气装置具有进气口以及排气口,所述进气口与所述通风腔以及工作腔连通,所述排气口位于所述座体的侧部;
支撑装置,设置于所述加热盘下方,所述支撑装置具有可伸缩的顶针,所述顶针可穿过所述加热盘将基片向上顶起。
2.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:所述通风口由设置于所述盖体上的若干通风孔组成。
3.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:所述真空槽组包括设置于加热盘中心的十字形真空槽,以及设置于所述十字形真空槽外侧的环形真空槽,所述十字形真空槽以及环形真空槽的中心与加热盘的中心对应。
4.根据权利要求3所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:所述真空发生装置包括设置于所述十字形真空槽内以及环形真空槽内的真空孔,以及与真空孔通过管路连接的真空泵。
5.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:所述排气装置包括排气管路以及设置于所述排气管路上的排气扇。
6.根据权利要求5所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:在所述排气管路上,自靠近进气口一端向排气口一端依次设置第一过滤阀、第二过滤阀以及第三过滤阀。
7.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:所述进气口由设置于所述加热盘外侧的多个进气孔组成。
8.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:所述顶针设置有两组,所述顶针包括内侧顶针以及外侧顶针。
9.根据权利要求8所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:所述内侧顶针以及外侧顶针分别通过连接块连接,所述连接块上螺纹连接有螺杆,所述螺杆与电机连接。
10.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备,其特征在于:在所述座体上靠近所述盖体与座体的铰接端设置挡块,在所述座体上设置有缓冲条,以在所述盖体与所述座体配合时,缓冲盖体的自由端。
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