[发明专利]一种用于等离子去胶机机台的密封圈在审
| 申请号： | 202110330213.0 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN113123710A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 唐在峰;昂开渠;许进 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | E06B7/16 | 分类号： | E06B7/16 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 等离子 去胶机 机台 密封圈 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于，至少包括：
T型密封圈；用于镶嵌所述T型密封圈的槽位；所述T型密封圈的顶部为T型的宽部，所述底部为T型的窄部；所述T型密封圈的宽部嵌于所述槽位的底部；与所述槽位开口部、所述T型密封圈底部紧贴的磁门。
2.根据权利要求1所述的用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于：所述T型密封圈的高度为5.4mm。
3.根据权利要求1所述的用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于：所述T型密封圈的宽度为5.4mm。
4.根据权利要求1所述的用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于：所述T型密封圈的窄部为圆弧形，所述圆弧形的半径为1.4mm。
5.根据权利要求1所述的用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于：所述T型密封圈的长度为792.538mm。
6.根据权利要求1所述的用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于：所述T型密封圈的工差为0.5％。
7.根据权利要求1所述的用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于：所述T型密封圈为铝导热圈。
8.根据权利要求1所述的用于等离子去胶机机台的密封圈，其特征在于：所述磁门用于隔离真空腔与EFEM微环境区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110330213.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
