[发明专利]通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法、系统及介质在审
申请号: | 202110335163.5 | 申请日: | 2021-03-29 |
公开(公告)号: | CN113092867A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 蔡恒松;王珲;王炯明;陈镇;王宇轩;韩君 | 申请(专利权)人: | 上海橙科微电子科技有限公司 |
主分类号: | G01R27/04 | 分类号: | G01R27/04;G01R31/28 |
代理公司: | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人: | 李佳俊;郭国中 |
地址: | 200120 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 通过 方波 测试 模块 发送 系统 阻抗 连续性 方法 介质 | ||
1.一种通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,包括:
步骤1:选定测试方波的频率;
步骤2:用光示波器测试该方波的光眼;
步骤3:基于反射原理,通过光眼计算链路的阻抗变化;
步骤4:根据光眼计算阻抗突变点的位置,并结合链路的阻抗变化对链路进行优化。
2.根据权利要求1所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,反射原理为:
P1+P3=P2;
P3/P1=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);
P4/P3=(Z1-Z2)/(Z1+Z2);
P4+P6=P5;
P6/P4=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);
其中,P1为入射功率;P2为传输功率;P3为反射功率;P4为第二次入射功率;P5为第二次传输功率;P6为第二次反射功率;Z1为软带的阻抗,Z2为软带和激光器之间的链路阻抗;Z3为激光内阻。
3.根据权利要求2所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,激光内阻为10欧姆,PCB和软带的阻抗DML控制为单端25欧姆,EML控制为单端50欧姆,从而计算链路部分的阻抗。
4.根据权利要求1所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,电磁波在PCB中的传播速度为:
其中,C为电磁波在真空中的传播速度,C=3*10^8m/s,εr为介质的相对介电常数;
根据公式:T=2L/V,计算出阻抗突变点的位置:L=TV/2;
其中,T为电磁波传播的时间。
5.一种通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,包括:
模块M1:选定测试方波的频率;
模块M2:用光示波器测试该方波的光眼;
模块M3:基于反射原理,通过光眼计算链路的阻抗变化;
模块M4:根据光眼计算阻抗突变点的位置,并结合链路的阻抗变化对链路进行优化。
6.根据权利要求5所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,反射原理为:
P1+P3=P2;
P3/P1=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);
P4/P3=(Z1-Z2)/(Z1+Z2);
P4+P6=P5;
P6/P4=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);
其中,P1为入射功率;P2为传输功率;P3为反射功率;P4为第二次入射功率;P5为第二次传输功率;P6为第二次反射功率;Z1为软带的阻抗,Z2为软带和激光器之间的链路阻抗;Z3为激光内阻。
7.根据权利要求6所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,激光内阻为10欧姆,PCB和软带的阻抗DML控制为单端25欧姆,EML控制为单端50欧姆,从而计算链路部分的阻抗。
8.根据权利要求5所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,电磁波在PCB中的传播速度为:
其中,C为电磁波在真空中的传播速度,C=3*10^8m/s,εr为介质的相对介电常数;
根据公式:T=2L/V,计算出阻抗突变点的位置:L=TV/2;
其中,T为电磁波传播的时间。
9.一种存储有计算机程序的计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至4中任一项所述的方法的步骤。
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