[发明专利]通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法、系统及介质在审

专利信息
申请号: 202110335163.5 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113092867A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 蔡恒松;王珲;王炯明;陈镇;王宇轩;韩君 申请(专利权)人: 上海橙科微电子科技有限公司
主分类号: G01R27/04 分类号: G01R27/04;G01R31/28
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 200120 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 通过 方波 测试 模块 发送 系统 阻抗 连续性 方法 介质
【权利要求书】:

1.一种通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,包括:

步骤1:选定测试方波的频率;

步骤2:用光示波器测试该方波的光眼;

步骤3:基于反射原理,通过光眼计算链路的阻抗变化;

步骤4:根据光眼计算阻抗突变点的位置,并结合链路的阻抗变化对链路进行优化。

2.根据权利要求1所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,反射原理为:

P1+P3=P2;

P3/P1=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);

P4/P3=(Z1-Z2)/(Z1+Z2);

P4+P6=P5;

P6/P4=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);

其中,P1为入射功率;P2为传输功率;P3为反射功率;P4为第二次入射功率;P5为第二次传输功率;P6为第二次反射功率;Z1为软带的阻抗,Z2为软带和激光器之间的链路阻抗;Z3为激光内阻。

3.根据权利要求2所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,激光内阻为10欧姆,PCB和软带的阻抗DML控制为单端25欧姆,EML控制为单端50欧姆,从而计算链路部分的阻抗。

4.根据权利要求1所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的方法,其特征在于,电磁波在PCB中的传播速度为:

其中,C为电磁波在真空中的传播速度,C=3*10^8m/s,εr为介质的相对介电常数;

根据公式:T=2L/V,计算出阻抗突变点的位置:L=TV/2;

其中,T为电磁波传播的时间。

5.一种通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,包括:

模块M1:选定测试方波的频率;

模块M2:用光示波器测试该方波的光眼;

模块M3:基于反射原理,通过光眼计算链路的阻抗变化;

模块M4:根据光眼计算阻抗突变点的位置,并结合链路的阻抗变化对链路进行优化。

6.根据权利要求5所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,反射原理为:

P1+P3=P2;

P3/P1=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);

P4/P3=(Z1-Z2)/(Z1+Z2);

P4+P6=P5;

P6/P4=(Z3-Z2)/(Z3+Z2);

其中,P1为入射功率;P2为传输功率;P3为反射功率;P4为第二次入射功率;P5为第二次传输功率;P6为第二次反射功率;Z1为软带的阻抗,Z2为软带和激光器之间的链路阻抗;Z3为激光内阻。

7.根据权利要求6所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,激光内阻为10欧姆,PCB和软带的阻抗DML控制为单端25欧姆,EML控制为单端50欧姆,从而计算链路部分的阻抗。

8.根据权利要求5所述的通过方波测试光模块发送系统阻抗的连续性的系统,其特征在于,电磁波在PCB中的传播速度为:

其中,C为电磁波在真空中的传播速度,C=3*10^8m/s,εr为介质的相对介电常数;

根据公式:T=2L/V,计算出阻抗突变点的位置:L=TV/2;

其中,T为电磁波传播的时间。

9.一种存储有计算机程序的计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至4中任一项所述的方法的步骤。

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