[发明专利]掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法

权利要求书

1.一种掩模支撑模板的制造方法，包括以下步骤：

(a)准备一面形成有第一绝缘部的掩模金属膜；

(b)通过在模板上夹设第一绝缘部使掩模金属膜粘合到模板的上部面；

(c)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。

2.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

临时粘合部形成于模板的上部面，掩模金属膜通过夹设临时粘合部和第一绝缘部粘合到模板的上部面。

3.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

第一绝缘部包括固化负型光刻胶、含有环氧树脂的负型光刻胶中的至少一个。

4.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

临时粘合部是可通过加热而分离的粘合剂或者粘合片材、可通过照射紫外线而分离的粘合剂或者粘合片材。

5.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，步骤(c)包括以下步骤：

(c1)在掩模金属膜上形成图案化的第二绝缘部；

(c2)蚀刻第二绝缘部之间露出的掩模金属膜部分并形成掩模图案；以及

(c3)去除第二绝缘部。

6.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，步骤(c)包括以下步骤：

(c1)在掩模金属膜上形成图案化的第2-1绝缘部；

(c2)在掩模金属膜的一面通过湿蚀刻形成预定深度的第一掩模图案；

(c3)至少在第一掩模图案内填充第2-2绝缘部；

(c4)通过烘焙使第2-2绝缘部的至少一部分挥发；

(c5)在第2-1绝缘部的上部进行曝光，并只留下位于第2-1绝缘部的垂直下部的第2-2绝缘部；以及

(c6)在掩模金属膜的一面进行湿蚀刻，以形成从第一掩模图案贯穿掩模金属膜的另一面的第二掩模图案。

7.如权利要求6所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

第一掩模图案的厚度大于第二掩模图案的厚度，第一掩模图案的宽度大于第二掩模图案的宽度。

8.如权利要求6所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

第一掩模图案与第二掩模图案形状的和整体上呈现锥形或者倒锥形。

9.如权利要求6所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，步骤(c2)与步骤(c3)之间进一步包括以下步骤：

(1)在第2-1绝缘部之间露出的第一掩模图案的至少一部分上形成第2-3绝缘部；

(2)通过进一步湿蚀刻第一掩模图案来减小第一掩模图案的侧面与水平面形成的角度；

(3)去除第2-3绝缘部。

10.如权利要求9所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

在步骤(2)中，第一掩模图案的侧面与水平面形成的角度为30°至70°。

11.一种掩模支撑模板，该模板用于支撑OLED像素形成用掩模并将该掩模对应到框架上，该掩模支撑模板包括：

模板，其上部面形成有临时粘合部；以及

掩模，其上形成有掩模图案，且一面形成有第一绝缘部，

模板与掩模通过夹设临时粘合部和第一绝缘部进行粘合。

12.如权利要求11所述的掩模支撑模板，其中，

掩模以被施以侧面方向的拉伸力的状态粘合到模板上。

13.一种掩模制造方法，包括以下步骤：

(a)准备一面形成有第一绝缘部的掩模金属膜；

(b)通过在模板上夹设第一绝缘部使掩模金属膜粘合到模板的上部面；

(c)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模；

(d)分离模板与掩模。