[发明专利]掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法在审
申请号: | 202110346346.7 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN113529081A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 李炳一;金奉辰;李裕进 | 申请(专利权)人: | 悟勞茂材料公司 |
主分类号: | C23F1/02 | 分类号: | C23F1/02;C23F4/00;C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支撑 模板 及其 制造 方法 框架 体型 | ||
本发明涉及掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的掩模支撑模板的制造方法,包括以下步骤:(a)准备一面形成有第一绝缘部的掩模金属膜;(b)通过在模板上夹设第一绝缘部使掩模金属膜粘合到模板的上部面;(c)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。
技术领域
本发明涉及掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法。更具体地,涉及一种能够准确地控制掩模图案的尺寸与位置的掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法。
背景技术
作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术,主要使用FMM(FineMetal Mask,精细金属掩模)方法,该方法将薄膜形式的金属掩模(Shadow Mask,阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。
现有的掩模制造方法准备用作掩模的金属薄板,在金属薄板上进行PR涂布之后进行图案化或进行PR涂布使具有图案之后通过蚀刻制造具有图案的掩模。然而,为了防止阴影效果(Shadow Effect),难以使掩模图案倾斜地形成锥形(Taper),而且需要执行额外的工艺,因此导致工艺时间、费用增加,生产性下降。
在超画质的OLED中,现有的QHD画质为500-600PPI(pixel per inch,每英寸像素),像素的尺寸达到约30-50μm,而4K UHD、8K UHD画质具有比之更高的-860PPI,-1600PPI等的分辨率。因此,急需开发能够精准地调节掩模图案的尺寸的技术。
另外,在现有的OLED制造工艺中,将掩模制造成条状、板状等之后,将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具有与一个显示器对应的多个单元。另外,为了制造大面积OLED,可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架,在固定于框架的过程中,拉伸各个掩模,以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是,为了一边使各单元都平坦化且一边对准尺寸为数~数十μm的掩模图案,需要进行如下高难度作业:一边细微地调节施加于掩模各侧的拉伸力,一边实时地确认对准状态。
尽管如此,在将多个掩模固定于一个框架的过程中,仍然存在掩模之间及掩模单元之间对准不好的问题。另外,在将掩模焊接固定于框架的过程中,掩模膜的厚度过薄且面积大,因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的问题;由于焊接过程中在焊接部分产生的皱纹、毛刺(burr)等,导致掩模单元的对准不准的问题等。
如此,考虑到超高画质的OLED的像素尺寸,需要将各单元之间的对准误差缩减为数μm左右,超出这一误差将导致产品的不良,所以收率可能极低。因此,需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并使对准精确的技术以及将掩模固定于框架的技术等。
发明内容
技术问题
因此,本发明为了解决如上所述的现有技术的各种问题而提出,其目的在于提供一种能够准确地控制掩模图案的尺寸的掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法。
此外,本发明的目的在于提供一种可防止掩模发生皱纹或者扭曲等变形的框架一体型掩模的制造方法。
技术方案
本发明的上述目的通过掩模支撑模板的制造方法实现,所述方法包括以下步骤:(a)准备一面形成有第一绝缘部的掩模金属膜;(b)通过在模板上夹设第一绝缘部使掩模金属膜粘合到模板的上部面;(c)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。
临时粘合部形成于模板的上部面,掩模金属膜可通过夹设临时粘合部和第一绝缘部粘合到模板的上部面。
第一绝缘部可包括固化负型光刻胶、含有环氧树脂的负型光刻胶中的至少一个。
临时粘合部可以是可通过加热而分离的粘合剂或者粘合片材及可通过照射紫外线而分离的粘合剂或者粘合片材。
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