[发明专利]一种二维电容层析成像的图像重建方法在审

专利信息
申请号: 202110356534.8 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN113012253A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 李明禹;王莉莉;陈德运 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: G06T11/00 分类号: G06T11/00
代理公司: 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 代理人: 马雯
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 二维 电容 层析 成像 图像 重建 方法
【权利要求书】:

1.一种二维电容层析成像的图像重建方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、通过电容传感器阵列得到测量数据;

S2、对测量数据进行预处理;

S3、确定截断值;

S4、对构造出来的Hankel矩阵进行奇异值分解;

S5、对构造出来的矩阵进行反对角线取平均值,

S6、得到去噪后的矩阵;

S7、引入EIV模型;

S8、得到重建图像。

2.根据权利要求1所述的一种二维电容层析成像的图像重建方法,其特征在于,所述步骤S3中可以利用ROC曲线确定最佳截断值。

3.根据权利要求1所述的一种二维电容层析成像的图像重建方法,其特征在于,所述步骤S4中可以重新构造出一维信号。

4.根据权利要求1所述的一种二维电容层析成像的图像重建方法,其特征在于,所述步骤S4中奇异值分解的具体方法为,在系数矩阵中截断较小的奇异值之后,通过剩余较大的奇异值和相应的特征向量进行参数重建。

5.根据权利要求1所述的一种二维电容层析成像的图像重建方法,其特征在于,所述步骤S7中的EIV模型不仅考虑到了观测数据的误差,而且还考虑到了系数矩阵的误差,使用这个模型有望能够使得算法更加接近真实值。

6.根据权利要求1所述的一种二维电容层析成像的图像重建方法,其特征在于,所述步骤S4中使用总体最小二乘法,总体最小二乘法是普通最小二乘法结构的进一步改进。

普通最小二乘法的模型为:C=SG+Δ

其中C为n*1维观测向量,S为n*m维系数矩阵,G为m*1维未知向量,Δ为n*1维的观测向量误差。

普通最小二乘法只考虑到了观测数据的误差,并未考虑系数矩阵存在的误差,而总体最小二乘法能够同时兼顾自变量和因变量方向上的误差,从而使其达到整体最优解。

引入总体最小二乘平差函数模型:(C+Δc)=(S+Δs)G

其中Δc、Δs分别是观测向量的随机误差和系数矩阵的随机误差,其随机模型为:

vec(.)表示矩阵拉直算子,为观测矩阵和系数矩阵元素的验前单位权方差,In,Im分别为n和m阶单位阵,n,m是矩阵的行和列,表示kronecker积。

令eC=ΔC,eS=vec(ΔS),可得其目标函数为:

整理后可得:

令根据上式可以得到总体最小二乘的迭代解法,其迭代步骤如下:

(1)选取合适的迭代初始值G(0)

(2)计算迭代公式:

(3)通过(2)所计算得到的从而计算出下式:

G(i+1)=(STS)-1(STC+λ(i)G(i))

(4)重复(2)、(3),直到满足||G(i+1)-G(i)||<ε,迭代结束,输出G(i+1),其中ε是一个非常小的正数。ε的值越小最终所成图像的与原图像的误差也就越小。

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