[发明专利]基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置和方法

权利要求书

1.基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置，其特征在于：包括冲刷装置（100）以及安装在所述冲刷装置（100）上方的清洗装置（200），所述冲刷装置（100）包括安装台（110）、储水箱（120）和安装箱（130），所述储水箱（120）固定在安装台（110）顶部的一端，所述储水箱（120）的顶部安装有水泵（121），所述安装箱（130）安装在所述安装台（110）顶部位于所述储水箱（120）的一侧，所述安装箱（130）一侧的内壁连接有连接柱（131），所述连接柱（131）内开设有流动空腔，所述连接柱（131）的一端连通有喷头（132），所述储水箱（120）、所述水泵（121）和所述连接柱（131）之间通过连接管（122）相互连通，所述清洗装置（200）至少包括：

固定机构（210），所述固定机构（210）包括安装在所述储水箱（120）顶部的负压机（211）和安装在所述安装箱（130）顶部的第一电机（217），所述负压机（211）的进气口连通有通风管（212），所述通风管（212）的一端连通有通风环（213），所述通风环（213）的一端固定在所述安装箱（130）底部的内壁，所述通风环（213）的另一端转动连接有固定台（214），所述固定台（214）内开设有气体空腔，所述固定台（214）的顶部开设有若干穿孔（215），所述穿孔（215）、所述气体空腔和所述通风环（213）之间相互连通，所述固定台（214）外壁固定连接有传动齿轮（216），所述第一电机（217）的输出轴一端固定连接有转动齿轮（218）并与所述传动齿轮（216）啮合；

擦拭机构（220），所述擦拭机构（220）包括安装在安装台（110）顶部的第二电机（221）和滑板（223），所述第二电机（221）的输出轴一端固定连接有圆盘（222），所述滑板（223）侧边滑动连接有方板（224），所述方板（224）的表面开设有板槽（225），所述板槽（225）内设置有与所述圆盘（222）相啮合的联动齿轮，所述方板（224）的一侧安装有毛刷（226），所述毛刷（226）位于所述固定台（214）的上方。

2.根据权利要求1所述的基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置，其特征在于：所述安装箱（130）四周的内壁固定连接有挡板（140），所述挡板（140）与所述固定台（214）转动连接，所述固定台（214）呈圆形结构。

3.根据权利要求2所述的基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置，其特征在于：所述安装箱（130）的底部内壁设置有两个挡环（141），两个所述挡环（141）之间形成流水槽，用于对水的收集，两个所述挡环（141）之间安装有过滤板（142）。

4.根据权利要求1所述的基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置，其特征在于：所述安装台（110）的顶部连通有滴水管（111），所述滴水管（111）与所述安装箱（130）相连通，所述安装台（110）的底部位于所述滴水管（111）的下方安装有存水箱（112）。

5.根据权利要求1所述的基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置，其特征在于：所述安装台（110）的底部安装有安置箱（113），所述安置箱（113）内安装有若干夹板（114），若干夹板（114）之间形成插槽，用于对晶圆的存放。

6.根据权利要求1所述的基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置，其特征在于：所述第二电机（221）的两侧转动连接有转轮（227），所述滑板（223）的侧边开设有转槽（228），所述转槽（228）与所述转轮（227）转动连接。

7.根据权利要求1所述的基于往复升缩的半导体晶圆外壁清洗装置，其特征在于：所述第一电机（217）的外周安装有防护罩（240），所述防护罩（240）的内壁与外壁之间开设有填充空腔，所述填充空腔内填充有隔音棉（241）。