[发明专利]一种沉积方法以及沉积装置

权利要求书

1.一种沉积方法，其特征在于，包括：

提供晶圆和沉积挡板，所述晶圆的边缘区域具有定位缺口，所述沉积挡板包括用于遮挡所述定位缺口的突出部；

将所述沉积挡板置于所述晶圆上方，所述沉积挡板与所述晶圆两者圆心对准重合；

向所述晶圆的边缘区域发射光信号，接收并根据所述晶圆的边缘区域的反射光信号，判断所述定位缺口与所述突出部之间的偏差情况；

据所述偏差情况旋转所述沉积挡板，至所述突出部在所述晶圆上的正投影完全遮挡所述定位缺口。

2.根据权利要求1所述的沉积方法，其特征在于，所述偏差情况包括：所述突出部在所述晶圆上的正投影完全未遮挡所述定位缺口，以及所述突出部在所述晶圆上的正投影部分未遮挡所述定位缺口。

3.根据权利要求1所述的沉积方法，其特征在于，所述接收并根据所述晶圆的边缘区域的反射光信号，判断所述定位缺口与突出部之间的偏差情况的步骤进一步包括：

获取所述晶圆的边缘区域的反射光信号的反射面积；

将所述反射面积与预设面积比较，以判断所述定位缺口与所述突出部之间的偏差情况。

4.根据权利要求3所述的沉积方法，其特征在于，所述预设的面积包括：第一预设面积、以及第二预设面积；

所述第一预设面积是在所述突出部在所述晶圆上的正投影完全遮挡所述定位缺口的情况下预先测量反射光信号的面积；

所述第二预设面积是在所述突出部在所述晶圆上的正投影完全未遮挡所述定位缺口的情况下预先测量的面积；

若所述反射面积等于所述第一预设面积，判断所述突出部在所述晶圆上的正投影完全未遮挡所述定位缺口；

若所述反射面积小于第一预设面积且大于第二预设面积，判断所述突出部在所述晶圆上的正投影部分未遮挡所述定位缺口。

5.根据权利要求1所述的沉积方法，其特征在于，所述据所述偏差情况旋转所述沉积挡板，至所述突出部在所述晶圆上的正投影完全遮挡所述定位缺口包括：

当所述偏差情况为所述突出部在所述晶圆上的正投影部分未遮挡所述定位缺口时，将所述沉积挡板向距离所述定位缺口较近方向转动一个标准角度；其中，所述标准角度为所述定位缺口的轮廓与所述晶圆圆心的连线的最大角度。

6.根据权利要求1所述的沉积方法，其特征在于，所述据所述偏差情况旋转所述沉积挡板，至所述突出部在所述晶圆上的正投影完全遮挡所述定位缺口包括：

当所述偏差情况为所述突出部在所述晶圆上的正投影完全未遮挡所述定位缺口时，获取所述定位缺口与所述突出部之间的偏差值，根据所述偏差值旋转所述沉积挡板，至所述突出部在所述晶圆上的正投影完全遮挡所述定位缺口。

7.根据权利要求6所述的沉积方法，其特征在于，所述获取所述定位缺口与所述突出部之间的偏差值的步骤具体包括：

根据所述晶圆的边缘区域的反射光信号获取所述定位缺口和所述突出部的位置；

计算所述定位缺口与所述突出部之间的横向距离；

根据所述晶圆的半径和所述横向距离，计算所述定位缺口与所述突出部之间的角度差，作为所述偏差值用于旋转所述沉积挡板。

8.根据权利要求7所述的沉积方法，其特征在于，所述根据所述晶圆的半径和所述横向距离，计算所述定位缺口与所述突出部之间的角度差的方式进一步是：在所述晶圆的沉积面建立角坐标系，以所述晶圆中心作为角坐标原点，以角坐标原点指向所述突出部的方向为角坐标轴，再通过所述晶圆的半径和所述横向距离计算所述定位缺口与所述突出部的角度差。

9.根据权利要求1所述的沉积方法，其特征在于，所述光信号为红外光。

10.根据权利要求1所述的沉积方法，其特征在于，所述据所述偏差情况旋转所述沉积挡板的步骤进一步是采用嵌入带轮轴式装置来旋转所述沉积挡板。