[发明专利]一种气化炉及合成气处理方法

权利要求书

1.一种气化炉，包括：

气化室(01)；

合成气熔渣通道(8)；

隔板(9)；以及

激冷室(03)；

其中所述合成气熔渣通道(8)连通所述气化室(01)和所述激冷室(03)，所述隔板(9)围绕所述合成气熔渣通道(8)固定于所述气化室(01)和所述激冷室(03)之间，所述激冷室(03)设有膜式壁、调节支架(2)和激冷段。

2.根据权利要求1所述的气化炉，其特征在于，所述膜式壁包括列管及鳍片组件(4)、第一集箱(7)和第二集箱(1)；所述列管及鳍片组件(4)包括多根列管(41)，相邻所述列管(41)之间轴向间距通过具有有效宽度和有效厚度的所述鳍片(42)密封连接，所述有效宽度为0-20mm，所述有效厚度为5-12mm；所述列管(41)的管壁和所述鳍片(42)在两端分别与所述第一集箱(7)和所述第二集箱(1)密封连接，所述列管(41)的管腔与所述第一集箱(7)和所述第二集箱(1)连通。

3.根据权利要求2所述的气化炉，其特征在于，所述膜式壁围成圆柱体或棱柱体通道，所述列管及鳍片组件(4)围绕所述圆柱体或棱柱体通道的外周排列，所述圆柱体或棱柱体通道与所述合成气熔渣通道(8)连通。

4.根据权利要求3所述的气化炉，其特征在于，所述膜式壁还包括固定件(6)，所述固定件(6)与所述第一集箱(7)和所述隔板(9)分别密封连接，使所述膜式壁通过所述固定件(6)与所述隔板(9)固定连接；所述隔板(9)、所述固定件(6)、所述第一集箱(7)和所述列管及鳍片组件(4)构成密封腔壁，使所述密封腔壁与所述激冷室(03)的外壳之间密封。

5.根据权利要求4所述的气化炉，其特征在于，所述列管(41)竖直放置，所述列管及鳍片组件(4)的上端连接所述第一集箱(7)，所述列管及鳍片组件(4)的下端连接所述第二集箱(1)。

6.根据权利要求5所述的气化炉，其特征在于，所述膜式壁还包括一个或多个进水管(3)与一个或多个出水管(5)，所述进水管(3)通过设置在所述第二集箱(1)上的进水管口与所述第二集箱(1)连通，所述出水管(5)通过设置在所述第一集箱(7)上的出水管口与所述第一集箱(7)连通。

7.根据权利要求6所述的气化炉，其特征在于，所述调节支架(2)设置在所述膜式壁与所述激冷室(03)的外壳之间的炉体环腔中，并与所述膜式壁活动连接，用于调节所述膜式壁的径向和轴向位移。

8.根据权利要求7所述的气化炉，其特征在于，所述炉体环腔中设置有三个所述调节支架(2)，所述调节支架(2)与所述膜式壁靠近下端的部分活动连接。

9.一种合成气处理方法，包括在气化炉的激冷室(03)中采用膜式壁替代下降筒(11)装置；所述气化炉包括气化室(01)、合成气熔渣通道(8)、隔板(9)以及所述激冷室(03)；所述激冷室(03)设有所述膜式壁、调节支架(2)和激冷段；所述膜式壁包括列管及鳍片组件(4)、第一集箱(7)、第二集箱(1)、进水管(3)、出水管(5)和固定件(6)；所述膜式壁围成圆柱体或棱柱体通道，所述列管及鳍片组件(4)围绕所述圆柱体或棱柱体通道的外周排列，所述圆柱体或棱柱体通道与所述合成气熔渣通道(8)连通；所述列管(41)与所述列管(41)之间轴向间距通过具有有效宽度和有效厚度的所述鳍片(42)密封连接，所述有效宽度为0-20mm，所述有效厚度为5-12mm；所述膜式壁通过所述固定件(6)与所述激冷室顶部的所述隔板(9)固定连接，所述隔板(9)、所述固定件(6)、所述第一集箱(7)和所述列管及鳍片组件(4)构成密封腔壁，使所述密封腔壁与所述激冷室(03)的外壳之间密封；所述进水管(3)与所述第二集箱(1)连通，所述出水管(5)与所述第一集箱(7)连通；所述调节支架(2)设置在所述膜式壁与所述激冷室(03)的外壳之间的炉体环腔中，并与所述膜式壁靠近下端的部分活动连接。