[发明专利]一种抗日晒光学胶膜及其制备方法

权利要求书

1.一种抗日晒光学胶膜，其特征在于，包括：

基材胶膜；涂布于基材胶膜两侧的抗UV胶层。

2.根据权利要求1所述的一种抗日晒光学胶膜，其特征在于，抗UV胶层采用以下重量配比的原材料制成：丙烯酸酯类树脂85％-90％、流动改性剂10-14％，UV阻隔剂1-5％。

3.根据权利要求2所述的一种抗日晒光学胶膜，其特征在于，UV阻隔剂为无机阻隔剂，无机阻隔剂包括纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米氧化铈、纳米氧化镁、纳米氧化铝中的一种或多种混合。

4.根据权利要求3所述的一种抗日晒光学胶膜，其特征在于，UV阻隔剂为有机阻隔剂，有机阻隔剂包括三嗪类、苯并三氮唑类、二苯甲酮类中的一种或多种混合。

5.根据权利要求3所述的一种抗日晒光学胶膜，其特征在于，UV阻隔剂为混合阻隔剂，混合阻隔剂为纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米氧化铈、纳米氧化镁混合制成。

6.一种抗日晒光学胶膜的制备方法，根据权利要求1～5任一项所述的一种抗日晒光学胶膜，其特征在于，包括：

对基材胶膜进行预处理；

将抗UV胶层的基材原料溶解混合形成抗UV胶液；

将抗UV胶液涂布在预处理后的基材胶膜的两侧面上，固化后基材胶膜的表面形成抗UV胶层，得到抗日晒光学胶。