[发明专利]一种抗日晒光学胶膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种抗日晒光学胶膜及其制备方法，包括：基材胶膜；涂布于基材胶膜两侧的抗UV胶层。其制备方法包括：对基材胶膜进行预处理；将抗UV胶层的基材原料溶解混合形成抗UV胶液；将抗UV胶液涂布在预处理后的基材胶膜的两侧面上，固化后基材胶膜的表面形成抗UV胶层，得到抗日晒光学胶；且相较于传统的UV阻隔剂混入薄膜粒子原料的形式，涂布形式的工艺更加的便于加工生产；且将抗UV层与胶层结合的形式使得在加工生产的过程中只需要进行一次涂布工序就可以直接生产出具有防蓝光功能及具有附着力的抗日晒光学胶，有效减少加工生产时所需要的加工工序，降低加工的成本。

技术领域

本发明属于光学膜技术领域，涉及一种抗日晒光学胶膜及其制备方法。

背景技术

抗UV膜是将特殊配方涂料涂布于PET、P0等薄膜基材表面，以达到阻隔紫外光及短波长可见光效果的光学膜；

目前市场上用于显示屏的抗UV膜制造工艺主要是将蓝光阻隔剂混入薄膜粒子原料，通过双向拉伸工艺，直接做成抗UV薄膜，然后薄膜一面进行硬化、抗污、抗炫目、抗静电、高顺滑等表面处理，但薄膜双向拉伸生产工艺复杂，成本较高。

发明内容

为了实现上述目的，本发明采用了以下技术方案：

一种抗日晒光学胶膜，包括：基材胶膜；涂布于基材胶膜两侧的抗UV胶层。作为本发明进一步的方案：抗UV胶层采用以下重量配比的原材料制成：丙烯酸酯类树脂85％-90％、流动改性剂10-14％，UV阻隔剂1-5％。作为本发明进一步的方案：UV阻隔剂为无机阻隔剂，无机阻隔剂包括纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米氧化铈、纳米氧化镁、纳米氧化铝中的一种或多种混合。作为本发明进一步的方案：UV阻隔剂为有机阻隔剂，有机阻隔剂包括三嗪类、苯并三氮唑类、二苯甲酮类中的一种或多种混合。作为本发明进一步的方案：UV阻隔剂为混合阻隔剂，混合阻隔剂为纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米氧化铈、纳米氧化镁混合制成。一种抗日晒光学胶膜的制备方法，包括：对基材胶膜进行预处理；将抗UV胶层的基材原料溶解混合形成抗UV胶液；将抗UV胶液涂布在预处理后的基材胶膜的两侧面上，固化后基材胶膜的表面形成抗UV胶层，得到抗日晒光学胶。

本发明的有益效果：通过抗UV胶层实现在抗日晒光学胶使用的过程中避免出现因日晒发黄的效果；且相较于传统的UV阻隔剂混入薄膜粒子原料的形式，涂布形式的工艺更加的便于加工生产；且将抗UV层与胶层结合的形式使得在加工生产的过程中只需要进行一次涂布工序就可以直接生产出具有防蓝光功能及具有附着力的抗日晒光学胶，有效减少加工生产时所需要的加工工序，降低加工的成本。

具体实施方式

对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例，应理解，本申请不受这里公开描述的示例实施例的限制。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本发明实施例中，一种抗日晒光学胶膜，包括：基材胶膜；涂布于基材胶膜两侧的抗UV胶层。进一步的，抗UV胶层采用以下重量配比的原材料制成：丙烯酸酯类树脂85％-90％、流动改性剂10-14％，UV阻隔剂1-5％。可选的，UV阻隔剂为无机阻隔剂，无机阻隔剂包括纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米氧化铈、纳米氧化镁、纳米氧化铝中的一种或多种混合。可选的，UV阻隔剂为有机阻隔剂，有机阻隔剂包括三嗪类、苯并三氮唑类、二苯甲酮类中的一种或多种混合。可选的，UV阻隔剂为混合阻隔剂，混合阻隔剂为纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米氧化铈、纳米氧化镁混合制成。

通过抗UV胶层实现在抗日晒光学胶使用的过程中避免出现因日晒发黄的效果；