[发明专利]气溶胶形成基质以及气溶胶生成系统

权利要求书

1.一种气溶胶形成基质，其特征在于，所述气溶胶形成基质包括育亨宾或者育亨宾在药学上可接受的盐或者育亨宾水合物；

以气溶胶形成基质的总质量计，育亨宾或者育亨宾在药学上可接受的盐或者育亨宾水合物的质量百分比为0.1％～10％，优选的为0.1％～8％，进一步优选为0.1％～6％，进一步优选为0.1％～5％，进一步优选为0.5％～5％，进一步优选为1％～5％，进一步优选为2％～5％。

2.根据权利要求1所述的气溶胶形成基质，其特征在于，在药学上可接受的盐选自以下至少之一：

盐酸盐、氢溴酸盐、苯甲酸盐、氢氟酸盐、硫酸盐、硝酸盐、磷酸盐、甲酸盐、乙酸盐、丙酸盐、草酸盐、丙二酸盐、琥珀酸盐、富马酸盐、马来酸盐、乳酸盐、苹果酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐、苦味酸盐、甲磺酸盐、乙磺酸盐、苯磺酸盐、天冬氨酸盐、谷氨酸盐。

3.根据权利要求2所述的气溶胶形成基质，其特征在于，在药学上可接受的盐包括苯甲酸盐。

4.根据权利要求1-3任一所述的气溶胶形成基质，其特征在于，所述气溶胶形成基质还包括溶剂，所述溶剂选自以下至少之一：

丙二醇，丁二醇，戊二醇，己二醇，1,2,4-丁三醇，一缩二丙二醇，二甘醇，三甘醇，聚乙二醇200，聚乙二醇400，三醋酸甘油酯，甘油，二丙二醇缩醚，乙醇，水，柠檬酸三乙酯，辛癸酸甘油酯，异丙醇，甜橙油，柠檬油，薄荷油，棕榈油，花生油，玉米油，色拉油，木糖醇，山梨醇，赤藓醇。

5.根据权利要求4所述的气溶胶形成基质，其特征在于，所述溶剂包括丙二醇，且所述气溶胶形成基质中丙二醇的质量百分比为20％～60％，优选的为20％～50％，进一步优选为20％～45％，进一步优选为25％～45％，进一步优选为30％～45％，进一步优选为35％～45％。

6.根据权利要求5所述的气溶胶形成基质，其特征在于，所述溶剂包括甘油，且所述气溶胶形成基质中甘油的质量百分比为10～60％，优选的为10％～50％，进一步优选为10％～40％，进一步优选为20％～40％，进一步优选为30％～40％。

7.根据权利要求6所述的气溶胶形成基质，其特征在于，丙二醇与甘油的质量比大于1，优选的为1.1～4:1，进一步优选为2～4:1。

8.根据权利要求1-7任一所述的气溶胶形成基质，其特征在于，所述气溶胶形成基质还包括香味剂。

9.根据权利要求1-8任一所述的气溶胶形成基质，其特征在于，所述气溶胶形成基质不含有尼古丁和/或尼古丁盐。

10.一种气溶胶生成系统，其特征在于，所述气溶胶生成系统包括电子雾化装置以及权利要求1-9任一所述的气溶胶形成基质；

所述电子雾化装置被配置为对所述气溶胶形成基质进行雾化以生成气溶胶。