[发明专利]一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备

权利要求书

1.一种光谱成像设备校正方法，其特征在于，包括：

获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱；

通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过所述采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过所述光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果；

根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正；

对进入所述采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度；

根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第二成像结果各个像元中心波长的位置；

根据进入所述采样口之前的、经过标记的环境光的辐射强度值，对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正；

根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置；

根据对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值的校正量，对经过波长位置校正的所述第一成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正。

2.根据权利要求1所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，对获取的环境光标记特征光谱包括：向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，或者滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。

3.根据权利要求1所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系包括：

根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽；

根据所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽，以及环境光中特征光谱的中心波长和带宽，获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系。

4.根据权利要求1所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正包括：根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置。

5.根据权利要求1-4任一项所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，所述采样口为狭缝，第二区域位于所述狭缝一端。

6.一种光谱成像设备，其特征在于，应用权利要求1-5任一项所述的光谱成像设备校正方法，包括第一获取装置、第二获取装置，采样口和成像装置；

所述第一获取装置用于获取目标光，所述第二获取装置用于获取环境光，并对环境光标记特征光谱；

所述采样口用于通过第一区域对目标光采样，通过第二区域对经过标记的环境光采样，所述成像装置用于获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果；

所述第二获取装置还用于对进入所述采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度。

7.根据权利要求6所述的光谱成像设备，其特征在于，所述第二获取装置具体用于向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，或者所述第二获取装置具体用于滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。

8.根据权利要求6所述的光谱成像设备，其特征在于，所述成像装置具体用于将目标光和经过标记的环境光成像在同一感光面上。