[发明专利]一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备有效
申请号: | 202110400176.6 | 申请日: | 2021-04-14 |
公开(公告)号: | CN113108909B | 公开(公告)日: | 2022-12-02 |
发明(设计)人: | 张军强;李先峰;杨斌;辛久元 | 申请(专利权)人: | 长光禹辰信息技术与装备(青岛)有限公司 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G01J3/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王雨 |
地址: | 山东省青岛市高新区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光谱 成像 设备 校正 方法 | ||
本发明公开了一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备,首先获取目标光及环境光,并对获取的环境光标记特征光谱,通过采样口的第一区域对目标光采样,通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果,以及通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样,通过光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果,根据第二成像结果获得第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系,根据该关系对第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。本发明能够同步地获取目标光和环境光进行光谱成像,根据环境光的成像结果对目标光成像进行校正,能够在拍摄过程中对成像光谱实时地标定及校正。
技术领域
本发明涉及光谱和辐射标定及校正领域,特别是涉及一种光谱成像设备校正方法。本发明还涉及一种光谱成像设备。
背景技术
高光谱成像仪能够获取目标连续的光谱和图像信息,在农业、生态、国土资源等领域有着广泛的应用。光谱校正和辐射校正是高光谱成像仪定量遥感的基础,在实际应用中,无论是星载、机载还是地基高光谱成像仪都需要在实验室进行严格的光谱和辐射标定,并在使用过程中进行校正。通常仪器的标定和校正是一个独立的工作模式,无法在实际遥感拍摄过程中同步开展光谱和辐射的标定及校正,无法实时监视和标定遥感拍摄过程中仪器光谱和辐射状态的变化,以及环境变化对光谱、辐射测量结果的影响。
发明内容
本发明的目的是提供一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备,能够在拍摄过程中对成像光谱变化实时地标定及校正。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种光谱成像设备校正方法,包括:
获取目标光及环境光,并对获取的环境光标记特征光谱;
通过采样口的第一区域对目标光采样,通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果,以及通过所述采样口的第二区域对经过标记的环境光采样,通过所述光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果;
根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系,根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。
优选的,对获取的环境光标记特征光谱包括:向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱,或者滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。
优选的,根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系包括:
根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽;
根据所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽,以及环境光中特征光谱的中心波长和带宽,获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系。
优选的,根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正包括:
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系,校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置。
优选的,还包括:对进入所述采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度;
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系,校正所述第二成像结果各个像元中心波长的位置;
根据进入所述采样口之前的、经过标记的环境光的辐射强度值,对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正;
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系,校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置;
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